[發(fā)明專利]一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410447239.3
• 申請(qǐng)日: 2014-09-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104174857A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王松
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京京磁強(qiáng)磁材料有限公司
• 主分類號(hào): B22F9/04
• 分類號(hào): B22F9/04;H01F1/057;C22C38/16
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 趙青朵

1.一種釹鐵硼磁體的氣流磨粉方法，其特征在于，包括以下步驟：

a)將保護(hù)性氣體經(jīng)由噴嘴射入，對(duì)釹鐵硼磁體原料進(jìn)行氣流磨，得到釹鐵硼磁體粉粒；

b)將上述步驟得到的釹鐵硼磁體粉粒經(jīng)過(guò)分級(jí)輪篩選后，得到釹鐵硼磁體粉體；

所述噴嘴包括主噴嘴和副噴嘴；

所述主噴嘴的壓力為0.30～0.50MPa，所述副噴嘴的壓力為0.10～0.50MPa；

所述分級(jí)輪的轉(zhuǎn)速為2000～6000rpm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體粉體的粒度為小于等于13.0～15.0μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述步驟b)之后，還包括：

c)將步驟b)得到的釹鐵硼磁體粉體進(jìn)行再次篩選后，得到釹鐵硼磁體粉末；

所述釹鐵硼磁體粉末的平均粒度為2.5～4.0μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體粉末的粒度分布D90與粒度分布D10的比值小于等于4.5。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述篩選后，粒度大于13.0～15.0μm的釹鐵硼磁體粉粒，再次進(jìn)行氣流磨。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述保護(hù)性氣體為氮?dú)夂?或惰性氣體。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述噴嘴為拉瓦爾噴嘴，所述主噴嘴的個(gè)數(shù)大于等于3個(gè)，所述副噴嘴的個(gè)數(shù)大于等于1個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體原料為經(jīng)過(guò)熔煉、氫破碎和機(jī)械破碎后的釹鐵硼粗粉。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述氣流磨粉的設(shè)備為流化床式氣流磨。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣流磨粉方法，其特征在于，所述釹鐵硼磁體原料，按質(zhì)量百分比組成包括：Pr-Nd：28％～33％；Dy：0～10％；Tb：0～10％；Nb：0～5％；Al：0～1％；B：0.5％～2.0％；Cu：0～1％；Co：0～3％；Ga：0～2％；Gd：0～2％；Ho：0～2％；Zr：0～2％；余量為Fe。