[發明專利]一種半導體工藝方案管理系統及方法在審
| 申請號: | 201410446971.9 | 申請日: | 2014-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN105469175A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發明(設計)人: | 李秀軍 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G06Q10/06 | 分類號: | G06Q10/06;G06Q50/04 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 工藝 方案 管理 系統 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體制造技術領域,具體涉及一種半導體工藝方案 管理系統及方法。
背景技術
在半導體制造中,設備的工藝方案(Recipe)是一組決定設備工 藝(Process)的一組指令,包括相關參數的設定,同時也包括工藝方 案本身的相關信息,比如工藝方案的編輯者(Editor),最后修改時 間等。由于生產工藝和過程及其復雜,每個設備因工藝差異,工藝方 案眾多且設定各不相同;而同型設備為了減少工藝偏差(Process Variation),又需要相同工藝方案之間的設定彼此匹配(Matching)。 由于設備工藝方案的參數(Parameter)設定及改動都非常關鍵,其結 果直接影響著晶圓(Wafer)的品質,所以工藝方案的任何改動都需 要能有效管控。
現有技術中對于設備工藝方案的具體參數的設定和相關改動沒 有系統化的管理,需要工程師手動維護管理工藝方案的相關信息,為 此需要投入很大的人力并且也不能取得好的效果;同時更改的工藝方 案往往不經過驗證就被使用,影響產品質量及產品報廢,造成很大的 經濟損失。
發明內容
本發明的目的在于,提供一種半導體工藝方案管理系統,解決以 上技術問題;
本發明的目的還在于,提供一種管理半導體工藝方案的方法,解 決以上技術問題。
本發明所解決的技術問題可以采用以下技術方案來實現:
一種半導體工藝方案管理系統,其中,包括:
采集模塊,用于獲取半導體加工設備的原始工藝數據文件;
處理模塊,與所述采集模塊連接,用于將不同半導體加工設備的 原始工藝數據文件解析為同一格式的工藝數據文件;
存儲模塊,與所述處理模塊連接,用于對所述工藝數據文件進行 存儲;
校驗模塊,與所述存儲模塊連接,用于檢查要使用的工藝數據文 件是否經過驗證和/或檢查所述工藝數據文件的參數是否在參數上下 限范圍之內;
編輯模塊,與所述存儲模塊連接,用于對所述工藝數據文件中的 參數和/或參數上下限進行更改;
簽核模塊,與所述編輯模塊連接,用于對所述編輯模塊的任一更 改進行簽核使其生效。
優選地,所述處理模塊包括多個解析模塊,分別對應不同半導體 加工設備的不同原始工藝數據文件格式。
優選地,所述編輯模塊包括一標記生成模塊,所述標記生成模塊 依據每一次對參數和/或參數上下限的改動生成一更改記錄,所述簽 核模塊對所述更改記錄進行簽核使其生效。
優選地,所述簽核模塊接收到確認指令后,使對應的所述更改記 錄簽核生效。
優選地,還包括一比較模塊,連接于所述存儲模塊,用于比較同 一種加工類型的工藝,在不同半導體加工設備上的工藝數據文件的參 數。
優選地,所述工藝數據文件采用可擴展標記語言格式進行存儲。
優選地,還包括一參數規格文件,每一個工藝數據文件對應一參 數規格文件,所述參數規格文件記錄每個參數在工藝數據文件中的位 置信息、參數名和/或參數上下限,所述存儲模塊存儲所述參數規格 文件。
優選地,還包括一顯示模塊,所述顯示模塊與所述存儲模塊連接, 用以將所述工藝數據文件以樹形結構展現給用戶。
優選地,所述存儲模塊位于一服務器中,所述處理模塊位于半導 體加工設備中和/或用戶終端中,所述半導體加工設備和/或用戶終端 通過消息總線與所述服務器進行通訊。
本發明還提供一種管理半導體工藝方案的方法,其中,包括:
步驟1,獲取半導體加工設備的原始工藝數據文件;
步驟2,將原始工藝數據文件解析為同一格式的工藝數據文件;
步驟3,對所述工藝數據文件進行存儲。
優選地,還包括步驟4,對所述工藝數據文件中的參數和/或參數 上下限進行設定。
優選地,還包括步驟5,檢查要使用的工藝數據文件是否經過驗 證和/或檢查所述工藝數據文件的參數是否在參數上下限范圍之內。
有益效果:由于采用以上技術方案,本發明設計一種有效管理半 導體工藝方案的系統和方法以快速系統化管理整個晶圓廠設備的工 藝方案,實現:
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