[發(fā)明專利]滑動(dòng)導(dǎo)向裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410443132.1 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104421332A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-03-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 境久嘉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社三豐 |
| 主分類號(hào): | F16C29/02 | 分類號(hào): | F16C29/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 張勁松 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滑動(dòng) 導(dǎo)向 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種滑動(dòng)導(dǎo)向裝置,涉及在表面粗糙度測(cè)量?jī)x及圓度測(cè)量?jī)x等進(jìn)行微小位移的高精度測(cè)量的裝置所使用的裝置。
背景技術(shù)
目前,在表面粗糙度測(cè)量?jī)x及圓度測(cè)量?jī)x等以高精度測(cè)量微小位移的裝置中,使測(cè)量對(duì)象或測(cè)量部分移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)也需要高精度,這些移動(dòng)機(jī)構(gòu)使用了適于高精度化的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置。
在滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,通過(guò)利用伴隨固體接觸的滑動(dòng),可以提高移動(dòng)軸線的位置精度,還能夠提高導(dǎo)向面的面剛性及振動(dòng)衰減性。
在滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,為了提高沿著移動(dòng)軸線的位置精度,希望在滑動(dòng)面的摩擦阻力小,滑動(dòng)順暢。因此,不是使滑動(dòng)的一對(duì)滑動(dòng)面互相進(jìn)行固體潤(rùn)滑,而是采用在使用潤(rùn)滑油的邊界區(qū)域的潤(rùn)滑,通過(guò)采用油潤(rùn)滑滑動(dòng)導(dǎo)向裝置而減小摩擦系數(shù),從而減小摩擦阻力。
另外,通過(guò)增厚進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的滑動(dòng)面間的油膜,消除相互的固體接觸形成流體潤(rùn)滑,可以使摩擦系數(shù)接近零。但是,在這種流體潤(rùn)滑中,隨著油膜厚度的增加,一對(duì)滑動(dòng)面的間隔增大,得不到移動(dòng)軸線即導(dǎo)向方向的精度。另外,如果油膜的厚度增大,因負(fù)載負(fù)荷等,厚度易產(chǎn)生變動(dòng),作為導(dǎo)向件的剛性降低。因此,流體潤(rùn)滑不適合于要求更高的剛性及衰減性的導(dǎo)向裝置中。
在高精度的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,除了上述滑動(dòng)部分的摩擦阻力帶來(lái)的位置精度的問(wèn)題以外,還研究了有因滑動(dòng)部分的摩擦阻力引起的力矩的產(chǎn)生和隨之而來(lái)的姿勢(shì)變動(dòng)或位置誤差的產(chǎn)生的問(wèn)題。
例如,如專利文獻(xiàn)1(日本特公昭61-17613號(hào)公報(bào))或?qū)@墨I(xiàn)2(日本特開(kāi)昭62-241629號(hào)公報(bào)),為了使滑塊沿著導(dǎo)向體移動(dòng)而具有滑動(dòng)導(dǎo)向裝置,該滑動(dòng)導(dǎo)向裝置在導(dǎo)向體的表面和背面設(shè)置一對(duì)滑動(dòng)面,在滑塊上設(shè)置夾著導(dǎo)向體的ー對(duì)滑動(dòng)墊,使這一對(duì)滑動(dòng)面及滑動(dòng)墊滑動(dòng)。為了使滑塊移動(dòng),使用滾珠絲杠等驅(qū)動(dòng)裝置。
在這種結(jié)構(gòu)中,公知的是,當(dāng)滑塊的重心與驅(qū)動(dòng)力的中心發(fā)生偏離時(shí),在加速時(shí)或減速時(shí),滑塊上就會(huì)產(chǎn)生力矩。
另外,如果一對(duì)滑動(dòng)導(dǎo)向裝置的摩擦阻力的合力和驅(qū)動(dòng)力的中心發(fā)生偏離,不僅在加減速時(shí),而且在以勻速的移動(dòng)中也會(huì)產(chǎn)生力矩。
當(dāng)滑塊因這種滑塊的力矩而產(chǎn)生旋轉(zhuǎn),由該滑塊支承的測(cè)頭等就會(huì)產(chǎn)生不必要的位移,存在即使使用高精度的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置,也得不到足夠的高精度的問(wèn)題。
針對(duì)這種問(wèn)題,在專利文獻(xiàn)1中,將一對(duì)滑動(dòng)墊中的一方設(shè)定為動(dòng)壓滑動(dòng)方式,即、進(jìn)行雖然供給潤(rùn)滑油但也可維持固體接觸的邊界潤(rùn)滑,將另一方設(shè)定為利用油膜受壓的靜壓方式,通過(guò)按照與動(dòng)壓方式的滑動(dòng)墊的接觸面壓平衡的方式控制靜壓方式的滑動(dòng)墊的油壓,抑制滑塊上產(chǎn)生的力矩。而且,通過(guò)將動(dòng)壓方式的滑動(dòng)墊進(jìn)行滑動(dòng)的導(dǎo)向面設(shè)定為基準(zhǔn)導(dǎo)向面而確保導(dǎo)向精度,避免靜壓方式的滑動(dòng)墊與對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向面之間的間隔變動(dòng)的影響。
另外,在專利文獻(xiàn)2中,將一對(duì)滑動(dòng)墊的一方設(shè)定為動(dòng)壓方式,將另一方設(shè)定為靜壓方式,并且將這些滑動(dòng)墊組集中在滑塊的移動(dòng)方向兩端,由此,使各自的靜壓方式滑動(dòng)墊的控制帶來(lái)的滑塊姿勢(shì)變化的補(bǔ)償動(dòng)作有效地起作用。
在上述專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,通過(guò)將一對(duì)滑動(dòng)墊設(shè)定為動(dòng)壓方式或靜壓方式,可以抑制因滑動(dòng)墊的摩擦阻力引起而在滑塊上產(chǎn)生的力矩。
但是,在專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,在靜壓方式的滑動(dòng)墊中,需要根據(jù)動(dòng)壓方式的滑動(dòng)墊的接觸面壓精密地調(diào)節(jié)并維持進(jìn)行供給的油壓,也不可避免配管系統(tǒng)的復(fù)雜化。加之,在專利文獻(xiàn)2中,為了維持姿勢(shì),測(cè)量與導(dǎo)向面的距離,進(jìn)行反饋控制,因此,不可避免控制系的復(fù)雜化。
這樣,在現(xiàn)有的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置中,不可避免因摩擦阻力引起的滑塊的力矩,精度有可能降低,除此之外,當(dāng)要想解決這些問(wèn)題,存在不可避免裝置結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化之類的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種可以避免與摩擦阻力有關(guān)的精度降低,并且構(gòu)造上簡(jiǎn)單、制造及調(diào)節(jié)也容易的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置。
本發(fā)明的滑動(dòng)導(dǎo)向裝置具備:導(dǎo)向體,其具有互相平行的基準(zhǔn)導(dǎo)向面及副導(dǎo)向面;滑塊,其具有在所述基準(zhǔn)導(dǎo)向面上滑動(dòng)的基準(zhǔn)滑動(dòng)墊及在所述副導(dǎo)向面上滑動(dòng)的副滑動(dòng)墊,使由驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)的所述滑塊沿著所述導(dǎo)向體移動(dòng),其特征在于,所述副滑動(dòng)墊具有:在所述副導(dǎo)向面上滑動(dòng)的副滑動(dòng)面;與所述副導(dǎo)向面非接觸且承受來(lái)自所述副導(dǎo)向面的負(fù)載的輔助受壓面。
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F16C 軸;軟軸;在撓性護(hù)套中傳遞運(yùn)動(dòng)的機(jī)械裝置;曲軸機(jī)構(gòu)的元件;樞軸;樞軸連接;除傳動(dòng)裝置、聯(lián)軸器、離合器或制動(dòng)器元件以外的轉(zhuǎn)動(dòng)工程元件;軸承
F16C29-00 用于只作直線運(yùn)動(dòng)零件的軸承
F16C29-02 .滑動(dòng)接觸軸承
F16C29-04 .滾珠或滾柱軸承
F16C29-08 .覆蓋或防護(hù)滑道用的裝置
F16C29-10 .鎖定軸承用的裝置
F16C29-12 .用于調(diào)整間隙的裝置





