[發明專利]一種用于大曲率透鏡表面的0.532微米與1.064微米倍頻減反射膜

有效

• 申請號: 201410442919.6
• 申請日: 2014-09-02
• 公開（公告）號: CN104216034A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 劉永強;楊崇民;王養云;王穎輝;張建付;韓俊;張萬虎;李明偉;金柯
• 申請（專利權）人: 西安應用光學研究所
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 西北工業大學專利中心 61204
• 代理人: 陳星

1.一種用于大曲率透鏡表面的0.532微米與1.064微米倍頻減反射膜，包括透明基片和減反射膜系，其特征在于：所述減反射膜系由高折射率介質膜層和低折射率膜層交替疊加的12個膜層構成，其中，第一膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度11.8nm，第一膜層鍍制在所述透明基片的表面上；第二膜層為SiO₂膜，膜層厚度34.5nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度128.5nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為SiO₂膜，膜層厚度15.2nm，并鍍制在所述第三膜層上；第五膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度48.3nm，并鍍制在所述第四膜層上；第六膜層為SiO₂膜，膜層厚度30.8nm，并鍍制在所述第五膜層上；第七膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度65.1nm，并鍍制在所述第六膜層上；第八膜層為SiO₂膜，膜層厚度189.9nm，并鍍制在所述第七膜層上；第九膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度131nm，并鍍制在所述第八膜層上；第十膜層為SiO₂膜，膜層厚度47.9nm，并鍍制在所述第九膜層上；第十一膜層為Ta₂O₅膜，膜層厚度39.8nm，并鍍制在所述第十膜層上；第十二膜層為SiO₂膜，膜層厚度130.2nm，并鍍制在所述第十一膜層上。

2.根據權利要求1所述一種用于大曲率透鏡表面的0.532微米與1.064微米倍頻減反射膜，其特征在于：所述透明基片為折射率為1.46～1.60的玻璃片，Ta₂O₅折射率n＝1.946～2.126范圍內。