[發明專利]一種閾值電壓可調的薄膜晶體管在審
| 申請號: | 201410442648.4 | 申請日: | 2014-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN104183649A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 黃曉東;黃見秋 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L29/786 | 分類號: | H01L29/786;H01L29/423 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 楊曉玲 |
| 地址: | 211189 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 閾值 電壓 可調 薄膜晶體管 | ||
1.一種閾值電壓可調的薄膜晶體管,其特征在于,包括襯底(10)、設在襯底(10)上的第一柵極(11),設在襯底(10)上并且覆蓋第一柵極(11)的第一柵氧化層(12),設在第一柵氧化層(12)上的溝道層(13),設在溝道層(13)上相對兩側的源極(14)、漏極(15),設在溝道層(13)上以及源極(14)、漏極(15)上的隧穿層(21),設在隧穿層(21)上的存儲層(22),設在存儲層(22)上的阻擋層(23),以及設在阻擋層(23)上的第二柵極(17),所述第二柵極(17)位于第一柵極(11)正上方。
2.根據權利1所述的閾值電壓可調的晶體管,其特征在于,所述的隧穿層(21)為厚度在3?nm~15?nm的二氧化硅。
3.根據權利1所述的閾值電壓可調的晶體管,其特征在于,所述的存儲層(22)為厚度在2?nm~10?nm的氮化硅、二氧化鉿或氮氧化鉿。
4.根據權利1所述的閾值電壓可調的晶體管,其特征在于,所述的阻擋層(23)為厚度在10?nm~50?nm的三氧化二鋁。
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