[發明專利]一種表面致密多孔減反射膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201410438124.8
• 申請日: 2014-08-29
• 公開（公告）號: CN105439459B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 楊海齡;王吉寧;郝雷;張子楠;劉曉鵬;蔣利軍
• 申請（專利權）人: 北京有色金屬研究總院
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 劉秀青;熊國裕

1.一種表面致密多孔減反射膜，其特征在于，該減反射膜由兩層膜結構構成，包括形成在玻璃表面的多孔膜層和形成在該多孔膜層上的致密膜層；所述多孔膜層的孔徑大小為：5nm≤a＜10nm；所述減反射膜的形成過程是：將干凈的具有新鮮表面的玻璃從由溶膠A中提拉后進行退火形成多孔膜層；再將退火完成的樣品進一步在溶膠B中提拉后進行退火形成致密膜層；其中溶膠A中包含正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑、無水乙醇、曲拉通X-100和甲基三甲氧基硅烷，正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑、無水乙醇、曲拉通X-100、甲基三甲氧基硅烷的摩爾比為1:(1-5):(0.01-0.1):(20-50):(0.01-0.1):(0.01-0.1)；溶膠B中包含正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑和無水乙醇，正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑、無水乙醇的摩爾比為1:(1-5):(0.01-0.1):(20-50)。

2.一種權利要求1所述的表面致密多孔減反射膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)以正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑、無水乙醇、曲拉通X-100和甲基三甲氧基硅烷為原料，制備溶膠A；

(2)以正硅酸乙酯、去離子水、酸催化劑和無水乙醇為原料，制備溶膠B；

(3)將具有新鮮表面的玻璃從溶膠A中提拉后進行退火；

(4)將退火完成的樣品進一步在溶膠B中提拉后進行退火。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述酸催化劑選自醋酸、硝酸、鹽酸中的一種。

4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述步驟(3)、(4)中提拉速度為5-40cm/min。

5.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述步驟(3)、(4)中的退火溫度范圍為250℃-600℃，退火時間為5-60min。

6.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述玻璃為平板玻璃或管狀玻璃。