[發(fā)明專利]一種真空離子鍍氮化鋯銅裝飾板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410436749.0 | 申請日: | 2014-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN105370002A | 公開(公告)日: | 2016-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁萍 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫慧明電子科技有限公司 |
| 主分類號: | E04F13/077 | 分類號: | E04F13/077;E04F13/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市錫山區(qū)錫山*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 離子鍍 氮化 裝飾 | ||
1.一種真空離子鍍氮化鋯銅裝飾板,其特征在于:在銅裝飾板的基體表面依次設(shè)置有離子鍍鈦層和離子鍍氮化鋯層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空離子鍍氮化鋯銅裝飾板,其特征在于:在銅裝飾板基體表面與離子鍍鈦層之間設(shè)置有電鍍鉻/鎳層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空離子鍍氮化鋯銅裝飾板,其特征在于:在該電鍍鉻/鎳層和離子鍍鈦層之間設(shè)置有離子鍍鉻層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于無錫慧明電子科技有限公司,未經(jīng)無錫慧明電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410436749.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 導(dǎo)電化合物上的大晶粒低電阻率鎢
- 基于六方氮化硼和磁控濺射氮化鋁的氮化鎵生長方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及制備方法及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 連續(xù)氮化處理爐和連續(xù)氮化處理方法
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法





