[發明專利]硫摻雜石墨烯的生產方法在審
| 申請號: | 201410429227.8 | 申請日: | 2014-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN105366664A | 公開(公告)日: | 2016-03-02 |
| 發明(設計)人: | 王燦;賈銀娟;石竹;劉志成;高煥新 | 申請(專利權)人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 摻雜 石墨 生產 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種硫摻雜石墨烯的生產方法。
背景技術
石墨烯是由碳原子以sp2雜化軌道組成六邊形網絡結構的二維晶體 材料,具有非常優異的性能,如高的電子遷移率、良好的導熱性、透光 性以及很好的穩定性,可應用于半導體材料、復合材料、電池電極材料、 儲氫材料、場發射材料以及超靈敏傳感器等領域。摻雜是改變石墨烯電 子結構和化學性質的有效途徑。異質原子摻入石墨烯的晶格,不僅可有 效的引入帶隙,而且可以增加石墨烯的缺陷和局域的反應活性,從而產 生許多新的功能。研究發現氮、硼或磷元素能夠摻入石墨烯晶格并有效 改變其性能,而對其它元素摻雜的研究相對較少。
從理論上講硫元素是一種潛在的摻雜元素,但硫原子與碳原子半徑 相差較多,且電負性與碳原子相近,故硫元素并不容易摻入石墨烯晶格。 專利CN201110095599.8公開了一種硫摻雜石墨烯薄膜的制備方法,其分 別以硫粉和己烷為硫源和碳源,采用化學氣相沉積法在金屬襯底上生長 出硫摻雜石墨烯薄膜,但該方法需要復雜的金屬催化劑預處理工藝,設 備要求高,產量低,成本高,難以大規模生產。Müllen等報道了一種在 多孔硅板上制備硫摻雜石墨烯和氮摻雜石墨烯的方法(Advanced FunctionalMaterials,2012,22,3634-3640.),其采用硫化氫氣體作還原劑 和摻雜硫源,在高溫還原氧化石墨烯的同時實現石墨烯的硫元素摻雜, 但該方法需使用劇毒和強腐蝕性硫化氫氣體,設備要求苛刻,過量氣體 尚需增加無害化處理設備,且由于氧化石墨烯擔載在多孔硅板上故不利 于規模化生產。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是現有技術存在硫摻雜石墨烯制備工藝 復雜、設備要求高、原料極毒、產量低的問題,提供一種新的硫摻雜石 墨烯的生產方法。該方法可用于工業化制備硫摻雜石墨烯,具有工藝簡 單、設備要求低、原料毒害小、易于工業放大的優點。
為解決上述技術問題,本發明采用的技術方案如下:一種硫摻雜石 墨烯的生產方法,包括以下步驟:
a)將氧化石墨在溶劑中超聲剝離,得到氧化石墨烯溶液;
b)將所述氧化石墨烯溶液和含硫化合物混合,超聲處理使其分散混 合均勻,得到液體混合物;干燥所述液體混合物,得到固體混合物;
c)將所述固體混合物在惰性氣體保護下程序升溫熱處理,即得所述 硫摻雜石墨烯。
上述技術方案中,優選地,步驟a)超聲剝離時間為0.5~2小時。
上述技術方案中,優選地,步驟b)超聲處理時間為5~30分鐘。
上述技術方案中,優選地,所述氧化石墨烯溶液的濃度為0.1~7毫 克/毫升。更優選地,所述氧化石墨烯溶液的濃度為0.5~5毫克/毫升。
上述技術方案中,優選地,所述溶劑為水、乙醇、異丙醇、環己烷、 苯、丙酮、四氫呋喃、甲基吡咯烷酮、乙基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺或 二甲基乙酰胺。
上述技術方案中,優選地,所述含硫化合物為二苯基二硫醚、二(十 八烷基)二硫醚、二甲苯基二硫醚、3,3-二羥基二苯二硫醚、4,4-二巰基 二苯硫醚、二芐基硫醚、三苯甲硫醇、2-萘硫酚或二苯并噻吩中的至少一 種。
上述技術方案中,優選地,升溫速率為2~10℃/分鐘,熱處理溫度為 500~1000℃,熱處理時間為5分鐘~3小時。
上述技術方案中,優選地,熱處理溫度為550~900℃,熱處理時間 為10分鐘~2小時。
上述技術方案中,優選地,所述含硫化合物與氧化石墨烯溶液中氧 化石墨烯的重量比為1~50。
上述技術方案中,優選地,所述惰性氣體為氮氣、氬氣或者氦氣中 的至少一種。
本發明中,以氧化石墨為前驅體,通過超聲剝離得到均勻分散的氧 化石墨烯溶液;含硫有機物在高溫下熱解生成硫化氫等含硫元素的氣體, 其與氧化石墨烯發生反應,在還原氧化石墨烯的同時生成硫摻雜石墨烯。
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