[發明專利]光學涂膜形成用前體、光學涂膜以及光學涂膜的制造方法

在審

• 申請號: 201410428626.2
• 申請日: 2014-08-27
• 公開（公告）號: CN105368070A
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發明（設計）人: 廣瀨淳一
• 申請（專利權）人: 旭化成株式會社
• 主分類號: C08L83/10
• 分類號: C08L83/10;C08L33/00;C08K3/22;C08K3/36;C09D183/10;C09D133/00;G02B1/04;G02B1/11
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;李洋

技術領域

本發明涉及光學涂膜形成用前體、光學涂膜以及光學涂膜的制造方法。

背景技術

以往，作為光學涂膜的防反射膜大多是由形成涂膜的第1工序和在該涂膜中形成 空隙的第2工序制造的。如此地，通過在形成涂膜后，在涂膜中形成空隙，從而在防 反射膜中涂膜折射率降低，可實現反射率的降低。

例如，在專利文獻1～4中公開了一種多孔體，其利用多孔形成劑(多孔起因剤) 在涂膜中導入了空隙。

此外，在專利文獻5～7中，作為不需要從涂膜提取多孔起因劑的將低折射率多 孔體成膜的方法，公開了利用含有鏈狀金屬氧化物的涂布液將多孔體成膜的方法。

另外，在專利文獻8和10中公開了一種耐擦傷性優異的防反射膜，其是利用含 有鏈狀硅膠和球狀微粒的涂布液得到的。

此外，在專利文獻9中公開了一種涂膜，其是利用機械強度、透明性、耐候性、 耐化學藥品性、光學特性、防污性、防霧性以及抗靜電性等優異的水性高分子分散體 形成的。

另外，在專利文獻11中公開了一種防污性能優異的涂布組合物。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平01-312501號公報

專利文獻2：日本特開平07-140303號公報

專利文獻3：日本特開平03-199043號公報

專利文獻4：日本特開平11-035313號公報

專利文獻5：日本特開2001-188104號公報

專利文獻6：日本特開平11-061043號公報

專利文獻7：日本特開平11-292568號公報

專利文獻8：日本特開2005-10470號公報

專利文獻9：國際公開第2007/069596號小冊子

專利文獻10：日本特表2011-530401號公報

專利文獻11：國際公開第2010/104146號小冊子

發明內容

發明要解決的課題

但是，在專利文獻1～4中公開的技術中，在提取工序中除去用于形成空隙的多 孔起因劑時，膜會溶脹，具有引起空隙的外觀不良和膜剝離的問題以及成膜工序繁雜 的問題。

此外，利用專利文獻5～7中公開的方法得到的多孔體具有機械強度欠缺的問題。

另外，專利文獻8和10中公開的防反射膜具有耐候性存在改善的余地的問題。

此外，專利文獻9中公開的涂膜具有防反射特性存在改善的余地的問題。

另外，專利文獻11中公開的涂布組合物具有防反射特性存在改善的余地的問題。

此外，一般來說，已知將玻璃作為基材的防反射膜在多濕環境下堿成分會從玻璃 內部溶出，由于長時間的環境曝露，該溶出物會侵入防反射膜的空隙中，具有使防反 射效果降低的耐候性不足的問題。

因此，本發明中，鑒于上述現有技術的問題，目的在于提供一種光學涂膜前體， 其能夠得到即便在多濕環境下也能維持防反射特性的光學涂膜。

用于解決課題的方案

為了解決上述課題，本發明人進行了深入研究，結果發現，利用了下述光學涂膜 前體的光學涂膜在多濕環境下能夠長時間維持防反射特性，由此完成了本發明，所述 光學涂膜前體含有金屬氧化物(A)和在特定條件下升溫時包括兩個以上的放熱峰的樹 脂顆粒(B)。

即，本發明如下所述。

[1]

一種光學涂膜形成用前體，其含有金屬氧化物(A)和在以10℃/分鐘的升溫速度加 熱時具有兩個以上的放熱峰的樹脂顆粒(B)。

[2]

如權利要求1所述的光學涂膜形成用前體，其中，上述放熱峰中的至少1個超過 510℃。

[3]

一種光學涂膜，其從上述[1]或[2]所述的光學涂膜形成用前體中除去了上述樹脂 顆粒(B)的至少一部分。

[4]

一種光學涂膜的制造方法，該制造方法具有在300℃～800℃對光學涂膜形成用 前體進行熱處理而形成空隙的空隙形成工序，

上述光學涂膜形成用前體含有金屬氧化物(A)和樹脂顆粒(B)，所述樹脂顆粒(B) 在以10℃/分鐘的升溫速度加熱時具有兩個以上的放熱峰。

[5]