[發明專利]一種精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法

有效

• 申請號: 201410425856.3
• 申請日: 2014-08-26
• 公開（公告）號: CN104199257A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 李香濱
• 申請（專利權）人: 合肥芯碩半導體有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于包含以下步驟：

1）將掩膜板放置在定位精度較高的直寫光刻設備的定位平臺上，打開真空吸附，在掩膜板上曝光具有規則排列的定位標記的掩膜板；

2）將曝光后的掩膜板刻蝕清洗干凈后，放置在需要提高定位平臺絕對定位精度的直寫光刻設備上，打開真空吸附；

3）旋轉定位平臺的旋轉軸，調整定位平臺XY運動方向和掩膜板上定位標記的XY方向的一致性；

4）利用圖像匹配法，依次測量出每個定位標記處定位平臺的理論位置和實際位置的XY的差值；

5）將以上測量的XY的差值補償進定位平臺控制器，然后再重復步驟1）至步驟4）再次測量，以檢查補償后的效果。

2.根據權利要求1所述的精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于：步驟1)中所述的曝光即通過導入特定的圖形到可編程的空間圖形發生器，進行空間光調制，再精縮到掩膜板上。

3.根據權利要求1所述的精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于：做定位精度測量和補償時，XY軸之上要集成Z軸和旋轉軸，用于聚焦和角度調整。

4.根據權利要求1所述的精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于：用于測量和補償的掩膜板上曝光的定位標記呈二維分布，XY方向每個定位標記之間的間距相等，且覆蓋定位平臺XY軸的全行程。

5.根據權利要求1所述的精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于：抓取掩膜板上定位標記是靠高清CCD相機圖像采集，在上位機輸入圖像的模板，利用圖像匹配法使定位標記移至CCD相機的中心，CCD相機保持不動。

6.根據權利要求1所述的精密定位平臺絕對定位精度的測量及補償方法，其特征在于：測量后生成的文件具有固定的格式，可被定位平臺控制器讀取，由平臺控制器內部做插值處理，以提高XY平面內各個精細位置的定位精度。