[發(fā)明專利]浮雕幻影釉面磚的釉及制備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410425752.2
• 申請日: 2014-08-26
• 公開（公告）號: CN104140297A
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發(fā)明（設計）人: 梁桐燦;余國明;歐家瑞;楊鳴苗;王瑩
• 申請（專利權）人: 廣東宏陶陶瓷有限公司;廣東東陶陶瓷有限公司;廣東宏威陶瓷實業(yè)有限公司;廣東宏海陶瓷實業(yè)發(fā)展有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 佛山市南海智維專利代理有限公司 44225
• 代理人: 梁國杰

技術領域

本發(fā)明涉及釉面磚的制備技術領域，尤其是指一種浮雕幻影釉面磚的釉及制備。

背景技術

陶瓷磚家族中的一個大類——釉面磚，它所具有多色彩、多變化等優(yōu)勢，使其在家居裝修中擔任著極為重量的角色，是廚房、衛(wèi)生間、陽臺等空間裝飾的主力軍，這些私密空間更追求藝術品位，更追求時裝化。近年來，隨著噴墨打印技術在陶瓷裝飾上的應用，使釉面磚的表面裝飾更加豐富，圖案更新更快捷，設計的范圍更為廣闊，但它只局限于單一的平面圖案裝飾。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于克服上述缺點，提供一種浮雕幻影釉面磚的釉及其制備方法，在不對現(xiàn)有釉面磚的生產工藝做出重大改變的基礎上，重點對素坯體種類的優(yōu)選、底釉面釉熔塊的組成、面釉中不同性能熔塊的優(yōu)選及配比、底釉的配方組成、浮雕幻影印花釉配方組成、膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度、陶瓷膠輥印油參數(shù)及印花工藝的調整與優(yōu)化，從而使印制的浮雕幻影印花釉具有比噴墨印花釉更高的折射率和表面張力，能夠形成折射率高于噴墨印花釉的圖案，從而使其隱形于噴墨印花釉之中。同時利用該技術制造的一種浮雕幻影釉面磚產品，釉面的浮雕圖案能夠隨入射光線角度的改變而隱現(xiàn)于噴墨印花圖案之中。該技術突破了傳統(tǒng)裝飾理念，視覺效果非常獨特，從正面觀看產品，只能看到正常裝飾的圖案，但是從側面看，這些用浮雕幻影印花釉印制的圖案像浮雕一樣，輪廓清晰的凸現(xiàn)在產品面上，用手指觸摸產品表面又沒有明顯的凹凸感，從而達到浮雕幻影的特殊裝飾效果及整體藝術美感；同時該技術具備較強的普適性，易于在行業(yè)內推廣。

為解決上述技術問題所采用的技術方案：

一種浮雕幻影釉面磚的釉，其特征在于包括有：

底釉，其組分的重量份配比為：熔塊b38～40份、硅酸鋯6～8份、高嶺土10～12份、煅燒高嶺土6～8份、鉀長石粉9～11份、燒滑石7～9份、氧化鋁粉6～8份、石英粉9～11份、羧甲基纖維素0.05～0.1份、三聚磷酸鈉0.4～0.6份以及水37～40份；

面釉，其組分的重量份配比為：熔塊a45～55份、熔塊b25～35份、熔塊c10～20份、高嶺土2～4份、羧甲基纖維素0.04～0.06份、三聚磷酸鈉0.2～0.4份以及水37～40份；以及

浮雕幻影印花釉，其組分的重量份配比為：基礎釉粉100份、氧化鋅1～2份、氧化錫0.4～0.6份、氧化鈰0.5～1份以及陶瓷膠輥印油140～160份；其中

所述熔塊a的化學成分的重量百分比為：SiO₂62.5～64.5％、Al₂O₃5.5～7.5％、CaO8.5～9.5％、MgO1～3％、K₂O1～3％、Na₂O0.3～0.5％、ZnO8.5～10.5％、ZrO₂6.5～8.5％、B₂O₃2～4％；

所述熔塊b的化學成分的重量百分比為：SiO₂55～57％、Al₂O₃4～6％、CaO10～11％、MgO1～2％、K₂O1.5～2.5％、Na₂O0.1～0.3％、ZnO11～12％、ZrO₂9～11％、B₂O₃5～6％；

所述熔塊c的化學成分的重量百分比為：SiO₂57.5～58.5％、Al₂O₃8～9％、CaO11.5～12.5％、K₂O4～5％、Na₂O0.1～0.3％、ZnO12.5～13.5％、ZrO₂1.5～2.5％、PbO0.4～0.6％；

所述基礎釉粉的組分的重量份配比為：熔塊c100份、高嶺土2～4份、羧甲基纖維素0.06～0.08份、三聚磷酸鈉0.2～0.4份、水37～40份。

一種根據(jù)上述的浮雕幻影釉面磚的釉的制備，其特征在于包括以下步驟：

熔塊a的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉以及硼酸，進行配料混合，在熔塊爐內熔制，熔制溫度1520℃～1540℃，水淬成熔塊顆粒烘干即得；