[發明專利]一種納米/微米金膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201410421927.2
• 申請日: 2014-08-25
• 公開（公告）號: CN104192789A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 劉筆鋒;燕雙仟
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: B81B1/00
• 分類號: B81B1/00;B82Y40/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 曹葆青

1.一種納米/微米金膜，其特征在于，包括基質和納米/微米金層，所述納米/微米金屬層由金屬納米顆粒沉積而成，所述基質表面具有氨基，所述金屬納米顆粒與所述基質表面氨基形成強相互作用，使得所述納米/微米金層牢固附著在所述基質表面。

2.如權利要求1所述的納米/微米金屬膜，其特征在于，所述基質為不吸水的致密膜，優選為聚二甲基硅氧烷、玻璃、氧化銦錫導電玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亞胺膜、聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜。

3.如權利要求1或2所述納米/微米金屬膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)基質表面處理：將基質表面進行氧等離子處理或紫外光照射，使得基質表面產生氧化的活性基團，獲得表面活化的基質；

(2)基質表面氨基化：將步驟(1)中獲得的表面活化的基質，浸入3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中，進行氨基化處理，獲得表面氨基化的基質；

(3)沉積金屬膜：取氯金酸和強堿的碳酸氫鹽的混合溶液與葡萄糖溶液均勻混合，并涂布于步驟(2)中獲得的表面氨基化的基質上，使得每1cm2上分布有金元素3.58×10^-5g至2.87×10^-3g和葡萄糖7.5×10^-4g至3×10^-3g，20℃至40℃下，避光反應2小時至4小時后洗滌干燥，得到所述納米/微米金屬膜。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述基質為不吸水的致密膜，優選為聚二甲基硅氧烷、玻璃、氧化銦錫導電玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亞胺膜、聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜。

5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于，當所述基質為聚乙烯膜或聚四氟乙烯膜時，基質表面處理采用紫外光照射。

6.如權利要求3至5任意一項所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述氧等離子處理時間為3分鐘至5分鐘，所述紫外光照射，其紫外光強度為90uW/cm至180uW/cm，照射時間為40分鐘至90分鐘。

7.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)的具體操作為：

將步驟(1)中獲得的表面活化的基質，浸入3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中，反應30分鐘至120分鐘，用去離子水洗滌后干燥。

8.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)涂布的具體方法為，在步驟(2)中獲得的表面氨基化的基質上可逆鍵合一個中間具有凹槽的聚二甲基硅氧烷(PDMS)塊，所述凹槽用以盛放沉積溶液。

9.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟(3)所述氯金酸和強堿的碳酸氫鹽的混合溶液，其中氯金酸濃度在10^-3g/ml至2×10^-2g/ml之間，碳酸氫根的濃度在0.15mol/L至0.5mol/L。