[發明專利]液晶顯示裝置的制造方法和液晶顯示裝置

有效

• 申請號: 201410415812.2
• 申請日: 2014-08-21
• 公開（公告）號: CN104423109B
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 三宅敢;淺木大明;松本俊寬;宮地弘一;大木洋一郎;近藤史尚
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社;捷恩智株式會社
• 主分類號: G02F1/1347
• 分類號: G02F1/1347;G02F1/1333
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 龍淳

1.一種液晶顯示裝置的制造方法，其為具備在至少一個基板上具有光取向膜的一對基板的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述光取向膜由液晶取向材料形成，使液晶分子在與所述至少一個基板的主面平行的方向上取向，

所述液晶取向材料包含2種以上的聚酰胺酸或其衍生物、和溶劑，

所述2種以上的聚酰胺酸或其衍生物包含：至少使下述化學式(1-1)所示的二胺與第一四羧酸二酐反應而得到的化合物；和至少使下述化學式(1-2)所示的二胺與第二四羧酸二酐反應而得到的化合物，

所述第一四羧酸二酐和所述第二四羧酸二酐中的至少一者為下述化學式(2)所示的化合物，

所述液晶顯示裝置的制造方法依次包括：

工序(1)，在所述至少一個基板上形成由所述液晶取向材料形成的膜的工序；

工序(2)，對所述至少一個基板上的由所述液晶取向材料形成的膜進行臨時燒制的工序；

工序(3)，對臨時燒制后的由所述液晶取向材料形成的膜進行光照射的工序；和

工序(4)，對光照射后的由所述液晶取向材料形成的膜進行正式燒制的工序，

所述工序(4)包括對由所述液晶取向材料形成的膜從低溫向高溫進行多次正式燒制的操作，

其中，R¹和R²獨立地為-CH₃或氫原子，

2.如權利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述溶劑包含丁基溶纖材料和/或N-甲基-吡咯烷酮。

3.如權利要求1或2所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(4)使用被設定為不同溫度的多個加熱裝置進行。

4.如權利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(4)包括以具有多個不同溫度的恒溫期間的方式分階段地進行正式燒制的操作。

5.如權利要求4所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(4)進行在第一溫度和比所述第一溫度高的第二溫度下的2次正式燒制。

6.如權利要求4所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(4)進行在第一溫度、比所述第一溫度高的第二溫度、以及所述第一溫度與所述第二溫度之間的第三溫度下的3次正式燒制。

7.如權利要求5或6所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述第一溫度為100℃以上120℃以下。

8.如權利要求5或6所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述第二溫度為200℃以上。

9.如權利要求5或6所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述第一溫度為100℃以上120℃以下，

所述第二溫度為200℃以上。

10.如權利要求1、2、4～6中任一項所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(2)在70℃以下的溫度范圍內進行臨時燒制。

11.如權利要求1、2、4～6中任一項所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述工序(3)照射偏振度為30:1以上的直線偏振光。

12.一種液晶顯示裝置，其特征在于：

所述液晶顯示裝置通過權利要求1～11中任一項所述的液晶顯示裝置的制造方法來制造，

所述液晶顯示裝置的液晶顯示模式為IPS模式或FFS模式。