[發明專利]蒸發源裝置和蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201410411642.0
• 申請日: 2014-08-20
• 公開（公告）號: CN104213080A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 張家奇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種蒸發源裝置，包括殼體和設置在該殼體內的坩堝，其特征在于，所述蒸發源裝置還包括升降機構，用于帶動所述坩堝沿所述殼體的高度方向升降，所述升降機構能夠帶動所述坩堝上升至高于所述殼體開口的位置。

2.根據權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述升降機構包括設置在所述殼體內的伸縮部，所述坩堝設置在所述伸縮部的一端，所述伸縮部的另一端與所述殼體相連。

3.根據權利要求2所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述升降機構還包括用于為所述伸縮部提供動力的動力源。

4.根據權利要求2所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述伸縮部包括伸縮桿和支撐臺，所述支撐臺設置在所述伸縮桿的一端，所述坩堝設置在所述支撐臺上。

5.根據權利要求4所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述支撐臺上設置有定位件，所述定位件用于定位所述坩堝。

6.根據權利要求1至5中任意一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述殼體的側壁上設置有可封閉的開口。

7.根據權利要求1至5中任意一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述蒸發源裝置還包括具有加熱部的加熱機構和具有第一冷卻部的第一冷卻機構，所述加熱部設置在所述殼體內，用于對所述坩堝進行加熱，所述第一冷卻部設置在所述加熱部和所述殼體的側壁之間，所述殼體內還設置有具有第二冷卻部的第二冷卻機構，所述第二冷卻部的位置低于所述第一冷卻部的位置，所述升降機構能夠帶動所述坩堝下降至與所述第二冷卻部相對應的位置。

8.根據權利要求7所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第二冷卻機構的冷卻能力大于所述第一冷卻機構的冷卻能力。

9.根據權利要求8所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第一冷卻部和第二冷卻部內均設置有冷卻劑，所述第二冷卻部的容積大于所述第一冷卻部的容積。

10.一種蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍設備包括權利要求1至9中任意一項所述的蒸發源裝置。