[發明專利]光掩模及其制造方法、圖案轉印方法和顯示裝置制造方法

在審

• 申請號: 201410407479.0
• 申請日: 2014-08-19
• 公開（公告）號: CN104423141A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 山口昇;吉川裕;坪井誠治
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/26
• 分類號: G03F1/26;G03F7/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;于英慧

1.一種顯示裝置制造用光掩模，其通過如下方式形成：在透明基板上，利用濕式蝕刻分別對相位偏移膜、蝕刻掩模膜和遮光膜進行圖案化，由此形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的轉印用圖案，其中，

所述遮光部是在所述透明基板上依次層疊所述相位偏移膜、所述蝕刻掩模膜和所述遮光膜而成的，

所述相位偏移部是在所述透明基板上形成所述相位偏移膜，或者形成所述相位偏移膜和所述蝕刻掩模膜而成的，

所述透光部是使所述透明基板的表面露出而成的，

所述相位偏移膜由含有鉻的材料構成，

所述蝕刻掩模膜由對所述相位偏移膜的蝕刻液具有耐蝕刻性的材料構成，

所述相位偏移部與所述透光部具有彼此鄰接的部分，而且，所述相位偏移部與所述透光部對于所述光掩模的曝光光的代表波長具有大致180度的相位差。

2.根據權利要求1所述的顯示裝置制造用光掩模，其特征在于，

所述轉印用圖案包含線及間隔圖案，所述線及間隔圖案的線圖案具有：一定寬度的遮光部；以及與所述一定寬度的遮光部的兩側鄰接的一定寬度的相位偏移部。

3.根據權利要求1所述的顯示裝置制造用光掩模，其特征在于，

所述轉印用圖案包含孔圖案，所述孔圖案具有規定直徑的透光部、圍著所述透光部的一定寬度的相位偏移部和圍著所述相位偏移部的遮光部。

4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的顯示裝置制造用光掩模，其特征在于，

所述相位偏移部是在所述透明基板上形成所述相位偏移膜而成的，

所述相位偏移膜對于所述曝光光的代表波長進行大致180度的相位偏移。

5.根據權利要求1～3中的任意一項所述的顯示裝置制造用光掩模，其特征在于，

所述相位偏移部是在所述透明基板上依次層疊所述相位偏移膜和所述蝕刻掩模膜而成的，

所述相位偏移膜與所述蝕刻掩模膜的層疊對于所述曝光光的代表波長進行大致180度的相位偏移。

6.根據權利要求1～3中的任意一項所述的顯示裝置制造用光掩模，

在所述轉印用圖案中包含的、所述透光部與所述相位偏移部彼此鄰接的部分，所述相位偏移膜的被蝕刻面露出，

在所述鄰接的部分的截面中，與所述相位偏移膜的上表面、下表面和被蝕刻面分別對應的上邊、下邊和側邊滿足下述條件(A)和(B)：

(A)將所述上邊與所述側邊的接點以及所述上表面之下所述相位偏移膜的膜厚的3分之2的高度的位置處的所述側邊的位置連接而成的直線與所述上邊所成的角度在85度～120度的范圍內，

(B)第1假想線與第2假想線之間的寬度為所述膜厚的2分之1以下，其中，所述第1假想線通過所述上邊與所述側邊的接點且與所述透明基板的主表面垂直，所述第2假想線通過所述下表面之上所述膜厚的10分之1的高度的位置處的所述側邊的位置且與所述透明基板的所述主表面垂直。

7.一種顯示裝置制造用光掩模的制造方法，所述顯示裝置制造用光掩模通過如下方式形成：在透明基板上，利用濕式蝕刻分別對相位偏移膜、蝕刻掩模膜和遮光膜進行圖案化，由此形成包含遮光部、相位偏移部和透光部的轉印用圖案，其中，

所述遮光部是在所述透明基板上依次層疊所述相位偏移膜、所述蝕刻掩模膜和所述遮光膜而成的，

所述相位偏移部是在所述透明基板上形成所述相位偏移膜，或者形成所述相位偏移膜和所述蝕刻掩模膜而成的，

所述透光部是使所述透明基板的表面露出而成的，

該顯示裝置制造用光掩模的制造方法的特征在于，具有如下工序：

準備如下光掩模坯：在所述透明基板上，依次層疊了相位偏移膜、蝕刻掩模膜和遮光膜，進而形成了第1光致抗蝕劑膜；以及

對所述相位偏移膜、所述蝕刻掩模膜和所述遮光膜分別進行規定的圖案化，由此形成轉印用圖案，

在所述相位偏移膜的圖案化中，包含如下工序：將圖案化后的所述蝕刻掩模膜作為掩模，對所述相位偏移膜進行濕式蝕刻，

所述相位偏移膜由含有鉻的材料構成，

所述蝕刻掩模膜由對所述相位偏移膜的蝕刻液具有耐蝕刻性的材料構成，

所述相位偏移部與所述透光部具有彼此鄰接的部分，而且，所述相位偏移部與所述透光部對于所述光掩模的曝光光的代表波長具有大致180度的相位差。