[發(fā)明專利]一種正極材料匣缽裝缽輔助裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410406512.8 | 申請日: | 2014-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN105466222A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃兵 | 申請(專利權(quán))人: | 天津華夏泓源實業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | F27D5/00 | 分類號: | F27D5/00;H01M10/058 |
| 代理公司: | 天津濱海科緯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211 | 代理人: | 楊慧玲 |
| 地址: | 300182 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 正極 材料 匣缽 輔助 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于鋰離子電池正極材料制備設(shè)備領(lǐng)域,尤其是涉及一種正極材 料匣缽裝缽輔助裝置。
背景技術(shù)
目前,鋰離子電池正極材料的制備基本都是有鈷、鎳、錳、磷酸鐵氧化 物等及鋰鹽混合研磨,再經(jīng)過燒結(jié)、處理而來。未經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)的物料是一 種粉末狀的混合料,細(xì)度達(dá)到微米級別,而用來盛裝這種混合料的工具是一 種莫來石材質(zhì)的匣缽,當(dāng)混合料往匣缽內(nèi)裝料時,非常容易粘在匣缽四周及 底部,造成物料損失及可能造成高溫窯爐拱爐現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問題是提供一種可以防止正極材料在裝缽過程中物料 粘附在匣缽四周及底部的匣缽裝缽輔助裝置。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種正極材料匣缽裝 缽輔助裝置,包括支架和防塵罩,所述防塵罩套于匣缽上,匣缽置于所述支 架上,所述支架包括支撐腳和支撐板,所述支撐板下安裝所述支撐腳,所述 防塵罩為僅包括四個側(cè)面的梯形體,即所述四個側(cè)面均為梯形,所述防塵罩 下口大于上口。
優(yōu)選的,所述支撐板上相應(yīng)匣缽底部形狀設(shè)有凹槽,匣缽可恰好置于所 述凹槽內(nèi),裝料時對匣缽起固定作用。
為配合匣缽上的通風(fēng)口,優(yōu)選的,所述防塵罩上口相應(yīng)匣缽?fù)L(fēng)口處設(shè) 有凹陷,所述凹陷處有向內(nèi)彎折的卡板,將防塵罩套在匣缽上時,所述卡板 可卡在匣缽?fù)L(fēng)口處,起固定防塵罩的作用。
本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:由于支架和防塵罩的配合輔助作用, 使裝缽過程清潔、快捷、方便。
附圖說明
圖1是支架結(jié)構(gòu)示意圖
圖2是防塵罩結(jié)構(gòu)示意圖
圖3是匣缽結(jié)構(gòu)示意圖
圖4是本發(fā)明工作示意圖
圖中:1、支架,2、防塵罩,3、支撐板,4、支撐腳,5、凹槽,6、側(cè) 面,7、上口,8、下口,9、凹陷,10、卡板,11、匣缽,12、通風(fēng)口。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例做詳細(xì)說明。
如圖1和2所示,一種正極材料匣缽裝缽輔助裝置,包括支架1和防塵 罩2,所述防塵罩2套于匣缽11上,匣缽11置于所述支架1上,所述支架 1包括支撐腳3和支撐板4,所述支撐板4下安裝所述支撐腳3,所述防塵罩 2為僅包括四個側(cè)面6的梯形體,即所述四個側(cè)面6均為梯形,所述防塵罩 2下口8大于上口7。
優(yōu)選的,如圖1所示,所述支撐板3上設(shè)有凹槽5,匣缽11可恰好置于 凹槽5內(nèi),裝料時對匣缽11起固定作用。
如圖3所示,匣缽11側(cè)面上設(shè)有通風(fēng)口12。為配合匣缽11上的通風(fēng)口 12,優(yōu)選的,如圖2所示,所述防塵罩2上口7設(shè)有凹陷9,且凹陷9處有 向內(nèi)彎折的卡板10,將防塵罩2套在匣缽11上時,所述卡板10可卡在匣缽 11通風(fēng)口12處,起固定防塵罩2的作用。
使用本發(fā)明時,將匣缽11放置于支架1上的凹槽5內(nèi)固定,將防塵罩2 由下口8套向匣缽11,防塵罩2上的卡板10卡在匣缽11的通風(fēng)口12處, 防塵罩2固定好后,可進(jìn)行物料裝缽工作,由于匣缽11四周及底部都被遮 住,因此不會粘上物料粉塵。
以上對本發(fā)明的一個實施例進(jìn)行了詳細(xì)說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的 較佳實施例,不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍 所作的均等變化與改進(jìn)等,均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
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