[發明專利]一種同時制作多片含有厚度漸變區域的導光片的方法在審
| 申請號: | 201410405130.3 | 申請日: | 2014-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN104133344A | 公開(公告)日: | 2014-11-05 |
| 發明(設計)人: | 路志堅;鄭穎博;李中強 | 申請(專利權)人: | 南京博昱光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16;G03F7/20;G02B6/00 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 張蘇沛 |
| 地址: | 210046 江蘇省南京市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 同時 制作 含有 厚度 漸變 區域 導光片 方法 | ||
1.一種同時制作多片含有厚度漸變區域的導光片的方法,其特征在于,包括以下步驟:?
一、提供導光片基材,導光片基材具有光學透明特性;?
二、采用同一涂布裝置,在導光片基材上的同一涂布步驟中涂覆產生含有多個厚度漸變區域和厚度均勻區域的膠體涂層,膠體涂層含有可光聚合材料;?
三、設計掩模板,掩模板圖案含有多個與導光片中厚度漸變區域和厚度均勻區域分別對應的透光區域和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區域;?
四、使單元掩模板區域中的透光區域與基材上膠層中厚度漸變區域對齊,并使掩模板中含有密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區域與膠層中厚度均勻區域對齊;?
五、使用準直或接近準直的能量輻射,通過掩模板,照射基材上的膠層,選擇性地固化膠層中的可光聚合材料;并使用溶劑洗滌選擇性固化后的膠層,同時形成由膠體涂層中可光聚合材料接受能量輻射后固化而形成的導光片厚度漸變區域和密度漸變的微結構區域;?
六、使多片導光片分離。?
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟二中,導光片基材上采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區域和厚度均勻區域的膠層;所述狹縫涂布的方式是指:涂布膠體存放于膠體儲罐中,通過精密泵浦將膠體供給至狹縫涂布頭;涂布膠體從縫隙涂布頭的狹縫中吐出,同時,狹縫涂布頭沿X方向移動,使涂布膠體覆蓋到透明基?材的表面上,涂布膠體涂層區域包含厚度漸變區域和厚度均勻區域;涂布膠體涂層區域之間的間隙,在縫隙涂布頭移動至該區域時,無膠體從涂布頭的狹縫中吐出。?
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于:狹縫涂布頭起始位置定于沿X軸運動方向的“B”處,涂布膠體從狹縫涂布頭的狹縫中吐出,在-X方向流動至“A”處,狹縫涂布頭從位置“B”處移動至位置“C”處,通過控制狹縫涂布頭運動的速度和從狹縫涂布頭狹縫中膠體吐出的速度,形成從對應位置“B”處的膠體最厚處開始,厚度逐漸減小的厚度漸變區域;形成厚度逐漸減小的厚度漸變區域的控制方式為涂布頭狹縫膠體吐出的速度保持恒定,而狹縫涂布頭沿X方向的運動速度逐漸增加,當狹縫涂布頭運動至位置“C”,在狹縫涂布頭涂布膠體吐出的速度保持恒定的同時,使狹縫涂布頭勻速運動至位置“C”,形成厚度均勻區域。?
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟二中,導光片基材上采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區域和厚度均勻區域的膠層;所述狹縫涂布的方式是指:狹縫涂布頭吐出涂布膠體的狹縫上設置了多個填充狹縫的小區間,涂布膠體無法從相應的填充小區間處吐出;涂布至導光片基材上的膠層,相應地在Y方向上形成間隙性的區間,包含厚度漸變區域和厚度均勻區域的膠層之間被沒被膠層覆蓋的區間隔開。?
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟四中,掩模板含有襯底和多個單元掩模板圖案區域,單元掩模板區域包含透光區域?和含有密度漸變透光開口或阻光圖案區域,單元掩模板區域由阻光部分隔開,單元掩模板區域中透光開口與涂覆在基材上厚度漸變的區域對應,單元掩模板中由密度漸變的透光開口或阻光部分組成的圖案區域與基材上厚度均勻區域對應。?
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟五中,準直或近似準直的能量輻射為紫外光或電子束,膠層中可光聚合材料接受能量輻射而固化,采用溶劑洗滌經能量輻射步驟后的膠層,使接收能量輻射而固化的部分留在基材上,未固化的部分在溶劑洗滌的過程中被去除,在厚度漸變的膠體區域形成厚度漸變的固體區域,厚度均勻的膠體區域形成密度漸變的微結構區域。?
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:步驟六中,多片導光片通過切割的方式將單元導光片分切,分切的方式采用激光、機械或其他合適的切割方式;對厚度漸變區域的分切,包含沿厚度最大位置的切割;沿厚度最大位置的切割可在單元導光片從大版導光片分切后單獨進行,或在將單元導光片從大版導光片中分切時同時進行;所獲得的單元導光片的厚度漸變區域的端面可進一步進行拋光處理或其他提高光學性能的處理。?
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