[發明專利]圖形預處理方法以及測量圖形密度的方法

有效

• 申請號: 201410403759.4
• 申請日: 2014-08-15
• 公開（公告）號: CN104216235B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: 何大權;倪念慈;魏芳;朱駿;呂煜坤;張旭昇
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 王宏婧

1.一種圖形預處理方法，其特征在于，包括：

步驟S1，確定光刻工藝中的最小線寬，確定所述圖形中的某一直角的兩直角邊的大小為第一邊長和第二邊長；

步驟S2，得出第一邊長和第二邊長與最小線寬的比值關系為第一比值和第二比值，如果第一比值和第二比值均大于等于1，則進行步驟S3，對某一直角預處理；

步驟S3，如果所述直角為90°，依據一比值與邊長關系對照表，在所述圖形的所述直角處切去一等腰直角三角形；如果所述直角為270°，依據比值與邊長關系對照表，在所述圖形的所述直角處補上一等腰直角三角形；

步驟S4，重復進行步驟S1-S3，對所述圖形中的所有直角進行預處理，得到預處理圖形；

其中，所述比值與邊長關系對照表為根據所述第一比值和所述第二比值的大小制定的，所述比值與邊長關系對照表包括所述第一比值、所述第二比值以及與所述第一比值和所述第二比值相對應的等腰直角三角形的直角邊邊長的數值表；所述等腰直角三角形的兩個直角邊與所述圖形的所述直角的兩條邊重合。

2.如權利要求1所述的圖形預處理方法，其特征在于，如果第一比值小于1，或者第二比值小于1，則不對圖形進行處理。

3.如權利要求1所述的圖形預處理方法，其特征在于，制定比值與邊長關系對照表的具體步驟包括：

選取若干圖形，對每個圖形采用光學近距離修正并進行模擬，得到每個圖形的模擬圖形；

確定光刻工藝中的最小線寬，確定在每個所述圖形中選取的某一直角的兩直角邊的大小為第一邊長和第二邊長；

得出所選取的直角的第一邊長和第二邊長與所述最小線寬的比值為第一比值和第二比值；

將所述第一比值和第二比值均大于等于1的所述直角分成m組，并使得每一組包括n個所述直角，將所有的直角分別編號為ψ_ij，i＝1,2,…,m，j＝1,2,…,n；

比較所述直角ψ_ij所在的圖形與對應的模擬圖形，確定直角ψ_ij對應的等腰直角三角形，使得所述等腰直角三角形的斜邊與所述對應的模擬圖形相切，所述直角ψ_ij對應的等腰直角三角形的直角邊的數值為a_ij；

取a_i＝(a_i1+a_i2+a_i3+a_i4+…+a_in)/n，a_i即為第i組直角對應的等腰直角三角形的直角邊的邊長數值；

求得每一分組的a_i，并制成比值與邊長關系對照表；

其中，m、n均為正整數。

4.如權利要求3所述的圖形預處理方法，其特征在于，m為15。

5.如權利要求3所述的圖形預處理方法，其特征在于，n為10。

6.一種測量圖形密度的方法，其特征在于，包括：

提供光刻掩模板版圖，將所述光刻掩模板版圖按單位面積劃分成若干單元，每個單元包括有若干目標圖形和若干冗余圖形；

采用如權利要求1-5所述的圖形預處理方法，分別對所述目標圖形和冗余圖形進行預處理，得到預處理目標圖形和預處理冗余圖形；

計算所述單元內的所有預處理目標圖形以及所有預處理冗余圖形的面積，得到總面積，用所述總面積除以單位面積，得到所述單元的圖形密度。

7.如權利要求6所述的測量圖形密度的方法，其特征在于，所述單位面積為10μm*10μm。