[發明專利]一種基于顯微鏡的激光雙調制反射光譜檢測系統有效
| 申請號: | 201410403293.8 | 申請日: | 2014-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN104181110A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 王玘;袁小文;孫聊新;張波;陸衛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 顯微鏡 激光 調制 反射 光譜 檢測 系統 | ||
1.一種基于顯微鏡的激光雙調制反射光譜檢測系統,包括單模光纖(1)、成像放大系統(2)、半透半反片(3)、激光擴束系統(4)、低頻斬波器(5)、激光器(6)、顯微鏡系統(7)和一個高頻斬波器(8),其特征在于:
在所述的一激光雙調制反射光譜檢測系統中,被測樣品放置于顯微鏡前焦平面(7-3)上,作為探測光的受高頻斬波器(8)調制后的白光源通過顯微鏡照明系統(7-2)聚焦入射到樣品表面,激光器(6)發出的激光經低頻斬波器(5)調制后通過擴束系統(4),然后通過半透半反片(3)的反射作用進入鏡筒透鏡(7-1)作為泵浦光與探測光一起經過同一顯微物鏡(7-4)聚焦入射到樣品表面,樣品反射的光經顯微鏡(7)匯聚到顯微鏡一次成像面(10)處并經成像放大系統(2)成像至二次放大像面(9),作為視場光闌的單模光纖(1)放置在二次放大像面(9)處,通過電機控制對樣品面進行二維掃描,獲得納米區域的激光雙調制反射光譜信號。
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