[發明專利]低損耗耐高溫光纖有效
| 申請號: | 201410400444.4 | 申請日: | 2014-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN104155716B | 公開(公告)日: | 2018-09-11 |
| 發明(設計)人: | 徐巍;張栓民;葉亞楠;王靜 | 申請(專利權)人: | 武漢北方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02 |
| 代理公司: | 北京華沛德權律師事務所 11302 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 430205 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 損耗 耐高溫 光纖 | ||
1.一種低損耗耐高溫光纖,其特征在于,包括:
芯層,由折射率較高的玻璃材料組成,光將在芯層內進行傳輸;
包層,由折射率較低的玻璃材料組成,用于將光限制在芯層內進行全反射傳輸;
聚合物涂層,沿著芯層縱向軸線方向包覆在玻璃包層外表面,用于保護芯層和包層;
金屬涂層,沿著芯層縱向軸線方向包覆在聚合物涂層外表面,以隔離聚合物涂層與空氣之間的接觸;
在所述聚合物涂層外表面、與其相鄰的所述金屬涂層內表面之間涂覆一層粘結層,以使所述金屬涂層更牢固地與聚合物涂層粘結在一起;
所述粘結層,所用材料包括鈦或鈦的同族元素,厚度為5nm及以上;所述粘結層是通過包括化學氣相沉積鍍膜法、真空蒸發鍍膜法、真空濺射鍍膜法、真空離子鍍膜法或原子層沉積法包覆在所述的聚合物涂層外表面上。
2.根據權利要求1所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述的芯層和包層的玻璃材料包括石英玻璃、硫系玻璃、氟系玻璃。
3.根據權利要求1所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,光纖的芯層直徑為1μm以上,圍繞芯層的包層單邊厚度為5μm及以上。
4.根據權利要求1所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述聚合物涂層的層數為一層、兩層或兩層以上。
5.根據權利要求4所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于所述聚合物涂層的材料包括丙烯酸酯、高溫丙烯酸酯、液晶、特氟龍、ETFE或聚酰亞胺材料,每一層的所述聚合物涂層材料為相同組分的材料。
6.根據權利要求要求4或5所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,單層所述聚合物涂層的厚度為5μm及以上。
7.根據權利要求1所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述金屬涂層的層數為一層、兩層或兩層以上。
8.根據權利要求7所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述金屬涂層材料包括鋁、銅、銅-鎳、銀、金、鉑、鎢金屬,或前述金屬合金,單層所述金屬涂層為相同組分的材料。
9.根據權利要求8所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述金屬涂層,是通過包括化學氣相沉積鍍膜法、真空蒸發鍍膜法、真空濺射鍍膜法、真空離子鍍膜法或原子層沉積法依次包覆在所述聚合物涂層外表面上。
10.根據權利要求9所述的低損耗耐高溫光纖,其特征在于,所述的一層、兩層或兩層以上的金屬涂層,每層厚度為50nm或以上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢北方光電科技有限公司,未經武漢北方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410400444.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





