[發(fā)明專利]一種電鍍銅槽液的處理工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410399019.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104120485A | 公開(公告)日: | 2014-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 熊勁松;楊佳;楊艷芹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖北三江航天紅林探控有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25D21/16 | 分類號(hào): | C25D21/16 |
| 代理公司: | 武漢東喻專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 李佑宏 |
| 地址: | 432000 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍銅 處理 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于化工領(lǐng)域,更具體地,涉及一種電鍍銅槽液的處理工藝。
背景技術(shù)
電鍍銅工藝是應(yīng)用最廣泛的鍍種之一,鍍鎳、鍍錫、鍍裝飾鉻等電鍍工藝均需要采用鍍銅層作為底層。鍍銅層具有結(jié)晶細(xì)致、結(jié)合力強(qiáng)、整平性好、鍍液均鍍能力高等優(yōu)點(diǎn)。但在使用時(shí),槽液在通電過程中及放置過程中會(huì)產(chǎn)生碳酸鹽,少量的碳酸鹽對(duì)鍍覆生產(chǎn)沒有影響,但超過50g/L時(shí),鍍層顏色會(huì)呈豬肝色,且鍍覆層組織結(jié)構(gòu)粗糙和疏松,影響后續(xù)鍍覆,致使鍍覆質(zhì)量不能滿足要求。
為了解決以上問題,需要降低電鍍銅槽液中的碳酸鹽的濃度,通常采用稀釋電鍍銅槽液以降低碳酸鹽濃度的方法,甚至還有廢棄槽液重新配制新的槽液的方法,這兩種方法會(huì)導(dǎo)致成本增加或者環(huán)境破壞的問題。公開號(hào)為CN102603105A的中國專利申請(qǐng)公開了一種實(shí)驗(yàn)室氰化鍍銅廢液循環(huán)利用的方法,用制冷片降低廢液的溫度以形成沉淀而去除其中的碳酸鹽,這種方法應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中會(huì)耗費(fèi)大量的電能用來制冷以冷卻電鍍銅的槽液,具有較高的使用成本。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進(jìn)需求,本發(fā)明提供了一種電鍍銅槽液的處理工藝,其目的在于提供一種用于去除電鍍銅槽液中過量的碳酸鹽的成本低廉、操作簡(jiǎn)便、環(huán)境友好的方法,由此解決傳統(tǒng)去除電鍍銅槽液中過量的碳酸鹽方法存在成本高、易破壞環(huán)境的技術(shù)問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種電鍍銅槽液的處理工藝,用于去除電鍍銅槽液中過量的碳酸鹽,以使該電鍍銅槽液可重復(fù)利用,其特征在于,包括如下步驟:
S1:檢測(cè)電鍍銅槽液中碳酸鹽的濃度;
S2:當(dāng)S1中檢測(cè)得到的碳酸鹽的濃度不小于50g/L時(shí),向電鍍銅槽液中加入氫氧化鈣,且加入氫氧化鈣過程中攪拌電鍍銅槽液,使該電鍍銅槽液底部無沉淀;
S3:持續(xù)攪拌S2中加入氫氧化鈣后的電鍍銅槽液;
S4:靜置S3的電鍍銅槽液,使電鍍銅槽液中的沉淀物沉入底部;
S5:對(duì)經(jīng)S4后的電鍍銅槽液中上清液進(jìn)行循環(huán)過濾,進(jìn)一步去除上清液中殘留的沉淀物;
S6:檢測(cè)經(jīng)S5得到的電鍍銅槽液中氫氧化鹽的含量,根據(jù)其含量加入酒石酸以中和過量的氫氧根離子,即得到可重復(fù)利用的電鍍銅槽液。
進(jìn)一步的,所述步驟S2中,氫氧化鈣的加入質(zhì)量為電鍍銅槽液中包含的碳酸鹽質(zhì)量的0.6~0.8倍。
進(jìn)一步的,所述步驟S6中,加入的酒石酸質(zhì)量不少于電鍍銅槽液中氫氧化鹽的質(zhì)量的1.688~2.063倍。
進(jìn)一步的,所述步驟S2中攪拌時(shí)間和所述步驟S3的攪拌時(shí)間總和為12小時(shí)~16小時(shí)。
進(jìn)一步的,所述S4中電鍍銅槽液的靜置時(shí)間為6小時(shí)~8小時(shí)。
總體而言,通過本發(fā)明所構(gòu)思的以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比,由于僅僅采用化學(xué)方法將過量的碳酸鹽沉淀并且靜置后去除,不使用額外的電能和復(fù)雜的設(shè)備,成本低廉,操作簡(jiǎn)便,即可實(shí)現(xiàn)去除電解銅槽液中過量的碳酸鹽,使其可循環(huán)利用。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。此外,下面所描述的本發(fā)明各個(gè)實(shí)施方式中所涉及到的技術(shù)特征只要彼此之間未構(gòu)成沖突就可以相互組合。
實(shí)施例1
該實(shí)施例包括如下步驟:
S1:檢測(cè)電鍍銅槽液中碳酸鹽的濃度,其為50g/L,整個(gè)電鍍銅槽中具有1000L的槽液,其碳酸鹽的質(zhì)量為50kg。
S2:向電鍍銅槽液中加入氫氧化鈣,氫氧化鈣的加入質(zhì)量為40kg,即為電解銅槽液包含的碳酸鹽質(zhì)量的0.8倍,且加入氫氧化鈣過程中開啟過濾機(jī)的攪拌功能,使其不斷攪拌電鍍銅槽液,使該電鍍銅槽液底部無沉淀,攪拌時(shí)間為2小時(shí)。
S3:持續(xù)攪拌S2中加入氫氧化鈣后的電鍍銅槽液,攪拌時(shí)間為10小時(shí),步驟S2和步驟S3中攪拌時(shí)間一共為12小時(shí)。
S4:靜置S3的電鍍銅槽液,使電鍍銅槽液中的沉淀物沉入底部,其靜置時(shí)間為8小時(shí)。
S5:采用過濾機(jī)對(duì)經(jīng)S4后的電鍍銅槽液中上清液進(jìn)行循環(huán)過濾,該過濾機(jī)的型號(hào)為SANDA?YC-6-73,過濾參數(shù)為每小時(shí)不低于6噸。
S6:檢測(cè)經(jīng)S5得到的電鍍銅槽液中氫氧化鹽的含量,其為43.24kg,根據(jù)其含量加入酒石酸的質(zhì)量為89.2kg,即為電鍍銅槽液中氫氧化鹽的質(zhì)量的2.063倍,以中和過量的氫氧根離子。
經(jīng)上述步驟處理后,得到的電鍍銅槽液中碳酸鹽的濃度小于0.5g/L,滿足重復(fù)利用的標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)施例2
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于湖北三江航天紅林探控有限公司,未經(jīng)湖北三江航天紅林探控有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410399019.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





