[發明專利]一種基于背景紋影技術的氣體泄漏監測裝置與方法

在審

• 申請號: 201410395645.X
• 申請日: 2014-08-12
• 公開（公告）號: CN104155071A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 楊晨光;劉建國;闞瑞峰;許振宇;阮俊;姚路;王薇;范雪麗;戴云海
• 申請（專利權）人: 中國科學院合肥物質科學研究院
• 主分類號: G01M3/38
• 分類號: G01M3/38;G01N21/45
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 楊學明;顧煒

1.一種基于背景紋影技術的氣體泄漏監測裝置，其特征在于，該裝置包括面陣列探測器(1)、被監測對象(2)和背景(4)；面陣列探測器(1)實時采集被監測對象(2)后的背景(4)的背景照片(9)，并每次對比最新兩次采集的背景照片(9)，被監測對象(2)上如果有氣體泄漏點(6)，則泄漏的氣體會造成氣體泄漏造成的空氣折射率梯度變化區域(3)；根據背景照片上點的位置變化反映的空氣折射率梯度變化區域的形貌即可判斷是否出現氣體泄漏造成的空氣折射率梯度變化區域(3)，進而通過變化劇烈程度確定氣體泄漏點(6)的位置。

2.根據權利要求1所述的一種基于背景紋影技術的氣體泄漏監測裝置，其特征在于，背景(4)或是有人工圖案的幕布或墻面、地面，或是有一定圖案的自然背景，或是通過激光照射在墻面、地面形成的散斑，或是投影儀投射在幕布或墻面、地面形成的圖案。

3.一種基于背景紋影技術的氣體泄漏監測方法，利用權利要求1所述的基于背景紋影技術的氣體泄漏監測的裝置，其特征在于，該方法步驟如下：

1)通過被探測區域是否有氣體泄漏造成的空氣折射率梯度變化區域來探測氣體泄漏；

2)通過背景照片上點的位移來探測被探測區域是否有氣體泄漏造成的空氣折射率梯度變化區域；

3)通過空氣折射率梯度變化大小來搜尋氣體泄漏點。

4.根據權利要求3所述的基于背景紋影技術的氣體泄漏監測方法，其特征在于通過對比前后兩次采集的背景照片來獲得點的位移。

5.根據權利要求3所述的基于背景紋影技術的氣體泄漏監測方法，其特征在于通過對比不同角度同時采集的背景照片來獲得點的位移。

6.根據權利要求3所述的基于背景紋影技術的氣體泄漏監測方法，其特征在于背景或是有人工圖案的幕布或墻面、地面，或是有一定圖案的自然背景，或是通過激光照射在墻面、地面形成的散斑，或是投影儀投射在幕布或墻面、地面形成的圖案。