[發明專利]銥針尖、及使用銥針尖的離子源、電子源、顯微鏡和裝置有效
| 申請號: | 201410389960.1 | 申請日: | 2014-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN104347335B | 公開(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發明(設計)人: | 小堺智一;松田修;杉山安彥;相田和男;荒卷文朗;八坂行人;大庭弘 | 申請(專利權)人: | 日本株式會社日立高新技術科學 |
| 主分類號: | H01J37/02 | 分類號: | H01J37/02;H01J37/073 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人: | 李輝,黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 針尖 使用 離子源 電子 顯微鏡 裝置 | ||
1.一種銥針尖,其特征在于,在銳化的<210>方位的單晶的前端部具有角錐結構,所述角錐結構具有通過1個{100}結晶面和2個{111}結晶面包圍的<210>方位的前端,所述前端僅通過1個銥原子形成,將形成所述角錐結構的所述前端的所述1個銥原子作為第1層,所述第1層的正下方的第2層具有位于三角形的頂點的3個銥原子,所述第2層的正下方的第3層具有位于三角形的頂點和邊的6個銥原子。
2.一種氣體電場電離離子源,其特征在于,
具有權利要求1所述的銥針尖,作為釋放離子束的發射器,
其具有:
離子源室,其收容所述發射器;
氣體供給部,其向所述離子源室供給待離子化的氣體;
導出電極,其使所述氣體離子化以產生所述氣體的離子,并且施加用于將所述氣體的離子從所述發射器導出的電壓;以及
溫度控制部,其冷卻所述發射器。
3.根據權利要求2所述的氣體電場電離離子源,其特征在于,所述氣體的主成分為氫、氮、氧、氦、氖、氬、氪和氙中的至少一種氣體。
4.根據權利要求2所述的氣體電場電離離子源,其特征在于,所述氣體的主成分為氮。
5.根據權利要求4所述的氣體電場電離離子源,其特征在于,作為所述氣體的主成分的氮的純度在99%以上。
6.一種集束離子束裝置,其特征在于,具有:
權利要求2至5中的任意一項所述的氣體電場電離離子源;以及
控制單元,其通過所述氣體電場電離離子源產生的所述氣體的離子形成集束離子束,并向試樣照射所述集束離子束,進行所述試樣的照射區域的觀察、加工和分析中的至少一個處理。
7.一種電子源,其特征在于,
具有權利要求1所述的銥針尖,作為釋放電子的針尖,
具有導出電極,其產生所述電子,并且施加用于將所述電子從所述針尖導出的電壓。
8.一種電子顯微鏡,其具有:
權利要求7所述的電子源;以及
控制單元,其通過所述電子源產生的所述電子形成電子束,并且向試樣照射所述電子束,進行所述試樣的細微區域的觀察和計量中的至少一個處理,其中,
該電子顯微鏡是掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡和掃描透射電子顯微鏡中的至少某種電子顯微鏡。
9.一種電子束應用分析裝置,其特征在于,具有:
權利要求7所述的電子源;以及
控制單元,其通過所述電子源產生的所述電子形成電子束,并且向試樣照射所述電子束,進行所述試樣的觀察、計量和分析中的至少一個處理。
10.根據權利要求9所述的電子束應用分析裝置,其特征在于,該電子束應用分析裝置是電子束顯微分析儀和俄歇電子能譜裝置中的至少某種電子束應用分析裝置。
11.一種離子電子復合束裝置,其特征在于,具有:
權利要求2至5中的任意一項所述的氣體電場電離離子源和權利要求7所述的電子源中的至少一個;以及
控制單元,其將集束離子束和電子束向試樣上的同一部位照射,
至少滿足以下某種情況、即所述集束離子束是從所述氣體電場電離離子源獲得的集束離子束以及所述電子束是從所述電子源獲得的電子束。
12.一種掃描探針顯微鏡,其特征在于,
具有權利要求1所述的銥針尖作為探針,
具有控制單元,其在使所述探針接近試樣表面的狀態下進行掃描,從而計量所述試樣表面的原子級別的形態和狀態。
13.根據權利要求12所述的掃描探針顯微鏡,其特征在于,該掃描探針顯微鏡是掃描隧道顯微鏡和掃描原子間力顯微鏡中的至少某種掃描探針顯微鏡。
14.一種掩模修正裝置,其特征在于,具有:
權利要求2至5中的任意一項所述的氣體電場電離離子源;以及
控制單元,其通過所述氣體電場電離離子源產生的所述氣體的離子形成集束離子束,并且通過所述集束離子束修正光掩模的缺陷部。
15.根據權利要求14所述的掩模修正裝置,其特征在于,所述集束離子束是氮離子束。
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