[發明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 201410389718.4 | 申請日: | 2014-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN104425552B | 公開(公告)日: | 2017-08-01 |
| 發明(設計)人: | 鄭障均;李樹雄;韓和東;金會龍;姜京潤;張玄洙 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/50;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人: | 呂俊剛,劉久亮 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括基板,所述基板包括顯示區域和非顯示區域,其中,所述非顯示區域包括:
選通金屬線,所述選通金屬線位于所述基板上;
柵絕緣層,所述柵絕緣層使所述選通金屬線絕緣;
數據金屬線,所述數據金屬線位于所述柵絕緣層上;以及
至少兩個保護層,所述至少兩個保護層位于所述選通金屬線和所述數據金屬線交疊的區域中,位于所述數據金屬線上方,
其中,所述顯示區域包括:
薄膜晶體管TFT,所述TFT位于所述基板上;
鈍化層,所述鈍化層位于所述TFT上;
第一電極,所述第一電極位于所述鈍化層上;
外覆層,所述外覆層位于所述鈍化層與所述第一電極之間;
堤層,所述堤層使所述第一電極暴露,位于所述外覆層上;
發光層,所述發光層位于所述暴露的第一電極上;以及
第二電極,所述第二電極位于所述發光層上。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述選通金屬線是水平電源線,并且所述數據金屬線是垂直電源線。
3.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述選通金屬線是選通線,并且所述數據金屬線是數據線和公共電源線。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述保護層的平面區域比所述選通金屬線和所述數據金屬線交疊的區域大。
5.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述保護層包括第一電極圖案和所述鈍化層,并且所述第一電極圖案位于其上有所述第一電極的層上。
6.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述保護層包括鈍化層、外覆層圖案、第一電極圖案和堤層圖案,
其中,所述外覆層圖案位于其上有所述外覆層的層上,所述第一電極圖案位于其上有所述第一電極的層上,并且所述堤層圖案位于其上有所述堤層的層上。
7.一種用于制造顯示裝置的方法,所述方法包括以下步驟:
制備包括顯示區域和非顯示區域的基板;
在所述非顯示區域中形成選通金屬線;
在所述選通金屬線上形成柵絕緣層;
在所述柵絕緣層上形成數據金屬線;
在所述數據金屬線上形成保護層,
其中,所述保護層形成在所述選通金屬線與所述數據金屬線交疊的區域中,
其中,所述方法還包括以下步驟:
在所述基板的所述顯示區域中形成薄膜晶體管TFT;
在所述TFT上形成鈍化層;以及
在所述鈍化層上形成第一電極;
在所述鈍化層與所述第一電極之間形成外覆層;
在所述外覆層上形成使所述第一電極暴露的堤層;
在所述暴露的第一電極上形成發光層;以及
在所述發光層上形成第二電極。
8.根據權利要求7所述的方法,其中,通過將由與所述鈍化層的材料相同的材料形成的鈍化層圖案和由與所述第一電極的材料相同的材料形成的第一電極圖案堆疊,來形成所述保護層。
9.根據權利要求8所述的方法,其中,所述保護層還包括由與所述堤層的材料相同的材料形成的堤層圖案。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





