[發明專利]核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置

有效

• 申請號: 201410382643.7
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN104190676A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: 劉爽;王文奎;高玉柱;彭耀軍;李斌;姜祥;黃宛波;林澤泉;張磊;費克勛
• 申請（專利權）人: 蘇州熱工研究院有限公司;中國廣核集團有限公司
• 主分類號: B08B9/057
• 分類號: B08B9/057;B05C7/02
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛;項麗

1.一種核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，用于對核電站中管道的內壁進行腐蝕產物的吹掃清理并涂覆上涂層，其特征在于：其包括主氣路、供氣的供氣系統、供砂的加砂系統、供水的加水系統、供涂料的涂覆系統以及控制系統；

所述的主氣路的前端與所述的供氣系統相連接，所述的主氣路的后端形成一下沉段并在所述的下沉段后與待清理的管道相連接；所述的主氣路上設置有主吹掃閥；

所述的加砂系統和所述的加水系統分別連接于所述的主氣路的中部并位于所述的主吹掃閥之后；

所述的加砂系統包括具有加砂口和出砂口的加砂罐，所述的加砂罐的加砂口設置有上砂閥，所述的加砂罐的出砂口經由下砂閥與所述的主氣路相連接，所述的加砂罐還連接有調節其中氣壓的砂回氣通路；

所述的加水系統包括具有加水口和出水口的加水罐，所述的加水罐的加水口設置有上水閥，所述的加水罐的出水口經由下水閥與所述的主氣路相連接，所述的加水罐還連接有調節其中氣壓的水回氣通路；

所述的涂覆系統連接于所述的主氣路的下沉段的前端，其包括具有出料口的加涂料漏斗，所述的加涂料漏斗的出料口經由涂料閥與所述的主氣路相連接；

所述的控制系統分別與所述的主吹掃閥、所述的上砂閥、所述的下砂閥、所述的上水閥、所述的下水閥相連接。

2.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的主氣路的后端通過橡膠管與待清理的管道相連接。

3.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的供氣系統包括具有進氣口和出氣口的壓縮氣罐，所述的壓縮氣罐的進氣口與壓縮氣源相連接，所述的壓縮氣罐的出氣口與所述的主氣路相連接。

4.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的加砂系統還包括加砂漏斗，所述的加砂漏斗通過所述的上砂閥連接至所述的加砂罐的加砂口。

5.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的加水系統還包括加水漏斗，所述的加水漏斗通過所述的上水閥連接至所述的加水罐的加水口。

6.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的砂回氣通路和所述的水回氣通路分別與所述的主氣路相連接，所述的砂回氣通路上設置有由所述的控制系統控制的砂回氣閥，所述的水回氣通路上設置有由所述的控制系統控制的水回氣閥。

7.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的控制系統包括PLC、與所述的PLC相連接的交互裝置、為所述的PLC和所述的交互裝置供電的電源。

8.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的主氣路上的下沉段的下沉角度為45°。

9.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：所述的主吹掃閥的兩側連接有旁通氣路，所述的旁通氣路上設置有由所述的控制系統控制的旁通閥。

10.根據權利要求1所述的核電站管道內壁腐蝕產物清理和涂層涂覆裝置，其特征在于：其還包括若干個壓力變送器，各個所述的壓力變送器與所述的控制系統相連接。