[發明專利]清潔裝置、待清潔裝置、清潔件以及圖像形成裝置有效
| 申請號: | 201410381502.3 | 申請日: | 2014-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN104570674B | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 西川聰;沼崎朗;江口裕丈;三通田真也;高田憐;府中太一;大谷暢之 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G21/00 | 分類號: | G03G21/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光透射部 清潔裝置 清潔件 圖像形成裝置 清潔部 所述壁 按壓 凸出 透射光 相反側 壁部 清潔 | ||
本發明提供一種清潔裝置、待清潔裝置、清潔件以及圖像形成裝置。清潔裝置包括:清潔件,其包括清潔光透射部、具有基本上呈長條的形狀并且透射光的清潔部,以及支持所述清潔部的支持部;以及壁部,其設置在所述光透射部的縱向的所述光透射部的一個末端,并且具有沿與所述光透射部的所述縱向相交叉的方向形成的表面。所述清潔件和所述壁部各自具有如下構成:當使所述清潔件的與所述壁部接觸并按壓時,所述支持部彎曲成朝向設置有所述光透射部側的相反側凸出。
技術領域
本發明涉及一種清潔裝置、待清潔裝置、清潔件以及圖像形成裝置。
背景技術
日本專利文獻特開2001-343876號公報公開了一種清潔待清潔部件的清潔機構,其設置在圖像形成裝置中,并且具有如下結構:其中清潔件與該待清潔的部件的接觸僅在該清潔件插入到該圖像形成裝置中的方向上或該清潔件從該圖像形成裝置抽出的方向上。
發明內容
有鑒于此,本發明的目的在于當使清潔件的末端與壁部接觸并按壓該壁部時,抑制支持部中朝向光透射部側的彎曲的出現。
根據本發明的第一方面,提供一種清潔裝置,其包括:清潔件,其包括清潔光透射部的清潔部,以及支持所述清潔部的支持部,所述清潔部具有基本上呈長條的形狀并且透射光;以及壁部,其設置在所述光透射部的縱向的所述光透射部的一個末端,并且具有沿與所述光透射部的所述縱向相交叉的方向形成的表面。所述清潔件和所述壁部各自具有如下構成:當使所述清潔件的末端與所述壁部接觸并按壓時,所述支持部彎曲成朝向設置有所述光透射部側的相反側凸出。
根據本發明的第二方面,所述壁部相對于所述縱向傾斜,以及當使所述清潔件與所述壁部的末端接觸并按壓時,引導所述清潔件的末端部朝向所述光透射部側彎曲。
根據本發明的第三方面,提供一種待清潔裝置,其包括:光透射部,其具有基本上呈長條的形狀,并透射光,以及所述光透射部由包括清潔部的清潔件來清潔,所述清潔部由支持部支持;以及壁部,其設置在所述光透射部的縱向的所述光透射部的一個末端,并且具有沿與所述光透射部的所述縱向相交叉的方向形成的表面,并且當使所述清潔件的末端與所述壁部接觸并按壓時,所述壁部引導所述清潔件的末端朝向所述光透射部側。
根據本發明的第四方面,提供一種清潔件,其包括:清潔部,其用來進行清潔操作;支持部,其具有基本上呈長條的形狀并且支持所述清潔部;以及突起部,其在所述支持部的末端側設置在所述清潔部以及所述支持部中的至少一個上,以及其位于與所述支持部的中軸相比更靠近所述清潔部進行清潔操作的一側。
根據本發明的第五方面,所述突起部設置在所述清潔部上。
根據本發明的第六方面,提供一種清潔件,其包括:清潔部,其用來進行清潔操作;以及支持部,其具有基本上呈長條的形狀并且支持所述清潔部。所述清潔部進行清潔操作側的所述支持部的部分具有的抗彎剛性,大于所述清潔部進行清潔操作側的相反側的所述支持部的部分的抗彎剛性。
根據本發明的第七方面,在所述清潔部進行清潔操作側的所述支持部的所述部分上形成凹陷。
根據本發明的第八方面,在所述支持部的軸向上形成多個所述凹陷。
根據本發明的第九方面,所述清潔件是根據第一方面至第八方面中任一項所述的清潔件。
根據本發明的第十方面,提供一種圖像形成裝置,其包括:光照射裝置,其包括光源以及透射光的光透射部,所述光從所述光源發射并照射至待光照射部件;以及根據第一方面、第二方面和第九方面中任一項所述的清潔裝置,其通過使用清潔部清潔所述光透射部的表面。
根據本發明的第一方面,當所述清潔件的末端與所述壁部接觸并按壓時,可以抑制所述支持部中朝向所述光透射部側的彎曲的出現。
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