[發明專利]鍍膜設備

有效

• 申請號: 201410379728.X
• 申請日: 2014-08-04
• 公開（公告）號: CN104120389A
• 公開（公告）日: 2014-10-29
• 發明（設計）人: 郭世佳;劉滔滔;王云靖
• 申請（專利權）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C16/44;C23C14/56
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 趙根喜;李昕巍

1.一種鍍膜設備，用于對基板執行鍍膜工藝，其特征在于，所述鍍膜設備包括：

中央轉盤；

傳送室，包括沿所述中央轉盤外周配置的多個腔體，所述多個腔體包括進料腔體、至少一用于非金屬鍍膜的非金屬鍍膜腔體、至少一用于金屬鍍膜的金屬鍍膜腔體和出料腔體；以及

傳送裝置，設置于所述中央轉盤內，所述傳送裝置能夠自所述傳送室的其中一腔體取出所述基板，傳送至其他腔體。

2.如權利要求1所述的鍍膜設備，其中，所述金屬鍍膜腔體包括鍍銅腔體和/或鍍鈦腔體。

3.如權利要求1所述的鍍膜設備，其中，所述非金屬鍍膜腔體用于鍍類金剛石薄膜。

4.如權利要求1-3所述的鍍膜設備，其中，所述多個腔體還包括清洗腔體。

5.如權利要求1-3所述的鍍膜設備，其中，所述傳送裝置包括：

轉軸，所述轉軸垂直連接于所述中央轉盤，

水平轉臂，連接所述轉軸并可繞所述轉軸旋轉；

豎直轉臂，垂直連接于所述水平轉臂；以及

可伸縮的托舉叉，可樞轉地連接于所述豎直轉臂的頂端，且所述托舉叉與所述中央轉盤之間的距離可調整。

6.如權利要求1-3所述的鍍膜設備，其中，所述鍍膜設備還包括用以維持鍍膜設備真空度的干泵和分子泵，所述干泵為所述分子泵的前級泵。

7.如權利要求1-3所述的鍍膜設備，其中，所述中央轉盤包括蓋體、多棱柱狀的轉盤本體和底部框架。

8.如權利要求7所述的鍍膜設備，其中，所述轉盤本體的側面與所述多個腔體的每個的連接處設置有真空閥件。