[發(fā)明專利]一種晶振片清洗方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410375584.0 | 申請日： | 2014-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN104259128A | 公開（公告）日： | 2015-01-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳學(xué)兵 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州普京真空技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/04 | 分類號： | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12 |
| 代理公司： | 蘇州廣正知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32234 | 代理人： | 張漢欽 |
| 地址： | 215000 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 晶振片 清洗 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種晶振片清洗方法，其特征在于，分為以下操作步驟：配置晶振片清洗溶液，將溶液放置于清洗裝置中；將晶振片放入清水中進(jìn)行初步清洗，然后將晶振片放入裝好清洗液的清洗裝置中，對裝置中放入晶振片的部位進(jìn)行真空處理，然后對放入晶振片的停留時間為3-5個小時，侵泡后撈出用清水清洗，進(jìn)行晾曬，然后再將晶振片放入酒精中，侵泡3-5分鐘，撈出后擦拭干凈。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶振片清洗方法，其特征在于，所述清稀溶液為中包含有氟化氫銨。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶振片清洗方法，其特征在于，所述氟化氫銨的含量為15-20%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶振片清洗方法，其特征在于，清洗裝置為超聲波清洗機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶振片清洗方法，其特征在于，所述清洗機(jī)的振動頻率為40-60HZ。
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