[發(fā)明專(zhuān)利]一種基板處理裝置及基板處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410374186.7
• 申請(qǐng)日: 2014-07-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104347352B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金鎮(zhèn)浩
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 細(xì)美事有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/02
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/02;H01L21/677;B08B3/00
• 代理公司: 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;楊生平

1.一種基板處理裝置，包括：

第一室，其具有通過(guò)水平設(shè)置的水平框架以水平狀態(tài)搬送基板的第一輸送單元，及向所述基板供給第一液體的第一噴嘴；

第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平狀態(tài)和第一角度間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并搬送所述基板的第二輸送單元；

第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能夠在所述第一角度和第二角度之間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并搬送所述基板的第三輸送單元，

其中，所述第二輸送單元包括：

沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及

框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸，

其中，所述框架包括：

第一傾斜框架，其一端以所述第一角度傾斜配置；及

第一傾斜變換框架，其配置于所述水平框架和所述第一傾斜框架之間，能夠使輸送框架的上端從所述水平狀態(tài)傾斜變換為所述第一角度。

2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第一輸送單元包括：

沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及

框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸的框架，

其中，所述框架為水平設(shè)置的水平框架。

3.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第三輸送單元包括：

沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及

框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸，

其中，所述框架包括：

第二傾斜框架，其一端以所述第二角度傾斜配置；及

第二傾斜變換框架，其配置于所述第一傾斜框架和所述第二傾斜框架之間，能夠使所述輸送框架的上端從所述第一角度傾斜變換為所述第二角度。

4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第三室還包括向所述基板上供給第二液體的第二噴嘴。

5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其中所述基板處理裝置還包括第四室，

所述第四室包括：

第四輸送單元，其位于所述第二室和所述第三室之間，以所述第一角度搬送所述基板；及

第三噴嘴，其向所述基板上供給所述第二液體，

其中，所述第四輸送單元包括：

沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；及

框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸，

其中，所述框架為以所述第一角度傾斜設(shè)置的第三傾斜框架。

6.如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中所述第一角度為比所述第二角度小的角度。

7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其中所述第一角度為0.05°至5°之間的角度。

8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其中所述第二角度為5°至10°之間的角度。

9.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其中所述第一液體為化學(xué)制品；所述第二液體為清洗液。

10.如權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其中所述化學(xué)制品為顯影液。

11.一種基板處理方法，包括：

第一處理步驟，向水平狀態(tài)的基板供給第一液體，對(duì)基板進(jìn)行處理；

第二處理步驟，將供有所述第一液體的所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第一角度，并搬送所述基板；以及

第三處理步驟，在所述第二處理步驟之后向所述基板供給第二液體，將所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第二角度，并搬送所述基板的同時(shí)，對(duì)所述基板進(jìn)行處理，

其中，在所述第二處理步驟中包括：能夠使所述基板變換為第一角度的第一傾斜變換框架將所述基板變換為以第一角度傾斜之后，以第一角度傾斜配置的第一傾斜框架搬送所述基板的步驟。