[發明專利]一種抗紫外高透光聚酯薄膜及其制備方法

無效

• 申請號: 201410374147.7
• 申請日: 2014-08-01
• 公開（公告）號: CN104149429A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 金國華;黃強;楊樂;施燕;陳勝利;周明;許修安;韓州;葉建明;朱霆
• 申請（專利權）人: 蘇州襲麟光電科技產業有限公司
• 主分類號: B32B27/06
• 分類號: B32B27/06;B32B27/18;B32B27/36;B32B9/04;C08L67/00;C08K3/22
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種抗紫外高透光聚酯薄膜，其特征在于，所述抗紫外高透光聚酯薄膜，包括抗紫外聚酯層和設置在所述抗紫外聚酯層的一面或兩面上的二氧化硅膜層，所述抗紫外聚酯層為聚酯基中分散抗紫外劑，所述抗紫外劑包括納米二氧化鈦和納米氧化鋅。

2.根據權利要求1所述一種抗紫外高透光聚酯薄膜，其特征在于，所述二氧化硅膜層是二氧化硅溶膠通過旋轉法在抗紫外聚脂層上鍍膜形成的。

3.根據權利要求1所述一種抗紫外高透光聚酯薄膜，其特征在于，所述抗紫外聚脂層中抗紫外劑的重量含量為3-5wt％。

4.根據權利要求1所述一種抗紫外高透光聚酯薄膜，其特征在于，所述抗紫外劑中納米二氧化鈦和納米氧化鋅的重量配比為1:1-3:1。

5.權利要求1-4任一所述抗紫外高透光聚酯薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)抗紫外聚酯層的制備：通過原位聚合法將抗紫外劑分散在聚酯基內，制備獲得抗紫外PET切片，所述切片通過熔融擠出流延成膜后，通過靜態拉伸機進行雙軸拉伸成膜；

2)電暈處理：對獲得的抗紫外聚酯層的一面或兩面進行電暈處理；

3)二氧化硅溶膠的制備：以正硅酸乙酯、無水乙醇和水為原料，以氨水為催化劑，在20℃下攪拌使其均勻混合，然后將混合溶液放入密閉容器內，恒溫陳化；

4)鍍膜：旋轉情況下，將溶膠滴加在抗紫外聚酯層的電暈處理表面，然后加速旋轉并保持，固化后獲得抗紫外高透光聚酯薄膜。

6.根據權利要求5所述制備方法，其特征在于，所述溶膠的粘度為1.8cps，粒徑小于10nm。

7.根據權利要求5所述制備方法，其特征在于，所述步驟4)中滴加溶膠時的轉速為2000r/min。