[發明專利]一種防沉淀浸釉池

無效

• 申請號: 201410374005.0
• 申請日: 2014-07-31
• 公開（公告）號: CN104130027A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 陳向陽
• 申請（專利權）人: 廣西北流仲禮瓷業有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 北京中譽威圣知識產權代理有限公司 11279
• 代理人: 王正茂

技術領域

本發明涉及一種浸釉池，尤其涉及一種防沉淀浸釉池?

背景技術

浸釉是一種在陶瓷制作過程中對陶瓷坯體進行上釉常用的方法。由于釉水是由多種礦物質混合攪拌而成的，大量的使用時，其內部的礦物質會發生沉淀，造成釉水色澤和成分發生變化，釉水不能再用，造成浪費。現有的陶瓷制作過程中每隔一段時間就需要對釉水進行攪拌以防止礦物質的沉淀，其勞動強度大，增加上釉成本。?

發明內容

本發明針對上述問題的不足，提供了一種能夠防止釉水發生沉淀、結構簡單的防沉淀浸釉池。?

為達上述目的，本發明提供解決問題的技術方案是：一種防沉淀浸釉池，其包括：釉池、出釉管、泵體、入釉管及電磁閥，所述釉池的底部設置有向上凸起的錐形凸臺，所述錐形凸臺設置有中空的內腔，所述錐形凸臺的表面設置有多個通孔，所述出釉管的一端與所述釉池的中下部連接，所述出釉管的另一端與所述泵體連接，所述入釉管的一端與所述泵體連接，所述入釉管的另一端與所述錐形凸臺的內腔連接，所述入釉管上設置有所述電磁閥。?

本發明其他優選的結構有：所述通孔均勻分布。?

本發明的特點和效果是：通過泵體使釉池的釉水在底部循環流動，從而避免釉水的礦物質沉淀，且釉池的底部設置有錐形凸臺，錐形凸臺表面設置有通孔，能夠使釉池的釉水在底部進行全面的翻滾，效果更好。?

附圖說明

圖1為本發明的一種防沉淀浸釉池的結構示意圖。?

具體實施方式

以下參照附圖并結合具體實施方式來進一步描述，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施，保護范圍并不受制于本技術方案的實施方式。?

本發明的最佳實施例是這樣的，如圖1所示，一種防沉淀浸釉池，其包括：釉池1、出釉管2、泵體3、入釉管5及電磁閥4，釉池1的底部設置有向上凸起的錐形凸臺6，錐形凸臺6設置有中空的內腔，錐形凸臺6的表面設置有多個通孔7，通孔7使釉池1的內腔與錐形凸臺6的內腔相通。出釉管2的一端與釉池1的中下部連接，出釉管2的另一端與泵體3連接，入釉管5的一端與泵體3連接，入釉管5的另一端與錐形凸臺6的內腔連接，入釉管5上設置有電磁閥4。?

本發明其他優選的結構有：通孔7均勻分布在錐形凸臺6的錐面上。?

工作原理：?

打開電磁閥4，啟動泵體3，出釉管2從釉池1的中下部抽出釉水，并流到入釉管5內，再流入到錐形凸臺6的內腔，最后從錐形凸臺6上的通孔7重新回流到釉池1內，從而使釉水在釉池1的底部循環滾動，防止釉水中的礦物質沉淀，泵體3可以每隔一段時間便工作一陣，也可以持續工作。另外，由于錐形凸臺6的存在，且其設置有通孔7，能夠使釉水從不同的角度、位置和高度注入釉池1，使釉水在釉池1的底部充分翻滾，效果更好?

通過以上實施例可以詳細的解釋本發明，公開本發明的目的旨在保護本發明范圍內的一切技術改進。?