[發明專利]一種脫鎂硼泥基泡沫的制備方法在審
| 申請號: | 201410371063.8 | 申請日: | 2014-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN105294148A | 公開(公告)日: | 2016-02-03 |
| 發明(設計)人: | 郭琳;馬智明 | 申請(專利權)人: | 郭琳 |
| 主分類號: | C04B38/02 | 分類號: | C04B38/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 110179 遼寧省沈陽市渾*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 脫鎂硼泥基 泡沫 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于化工合成方法技術領域,尤其涉及一種脫鎂硼泥基泡沫的制備方法。
背景技術
硼泥是以硼礦石為原料,采用碳堿法生產硼砂和硼酸等硼化工產品后剩余的廢棄物。每生產1t硼砂約產生4t的硼泥。每年中國要生產40萬~50萬t硼砂,產生160萬~200萬t的硼泥,加上歷年的累積,超過千萬t的硼泥亟待處理。硼泥呈強堿性,大量的硼泥堆積不僅占用大量土地,而且對土地、水體和大氣都會造成污染。因此硼泥的問題引起了很多專家學者的廣泛關注。
硼泥的主要成分為氧化鎂、氧化硅、氧化鋁、氧化鐵和氧化鈣等,目前硼泥中的研究主要集中在用于制備建筑材料,用于冶金和廢水廢氣處理,制造硼鎂肥,提取其中的鎂元素等方面。雖然取得了一些成果,但現在硼泥的綜合研究利用多處在實驗室階段和小試階段,硼泥問題未得到徹底有效的解決。
發明內容
本發明就是針對上述問題,提供一種強度好的脫鎂硼泥基泡沫的制備方法。
為實現上述目的,本發明采用以下步驟。
1)稱取一定量硼泥,加入適量水成漿料,加入硫酸與漿料混合,反應期間輔以間歇性攪拌。
2)將混合液過濾,并洗滌,得到的濾液經純化處理得到工業級的硫酸鎂;得到的固體濾渣即為脫鎂硼泥。
3)將脫鎂硼泥在烘箱干燥,然后球磨,得到的固體通過篩,稱取一定量干燥磨細的脫鎂硼泥放入聚四氟乙烯容器中。
4)加入適量的氫氧化鈉水溶液,充分攪拌得到均勻的漿料;然后加入一定量由發泡劑水溶液振動發泡得到的泡沫劑,再次攪拌使其混合均勻,倒入模具成型;將其放入烘箱干燥,然后脫模。
5)放入馬弗爐從室溫升到燒結溫度,并保溫,然后自然冷卻至室溫,得到泡沫材料。
作為一種優選方案,本發明所述步驟3)將脫鎂硼泥在120℃的烘箱干燥12h,然后球磨1h,得到的固體通過120目篩。;所述步驟4),使氫氧化鈉質量分數為5%,后加入一定量由發泡劑含量為10%的水溶液振動發泡得到的泡沫劑,再次攪拌使其混合均勻,倒入模具成型。將其放入105℃烘箱干燥24h,然后脫模;所述步驟5)放入馬弗爐以2~3℃/min的升溫速率從室溫升到燒結溫度1050℃,并保溫1h。
作為另一種優選方案,本發明制備過程采用WE-30型液壓機,采用DRXL-Ⅰ導熱系數測試儀,采用JSM-5600LV掃描電子顯微鏡,采用用RigakuD/max2400X射線衍射儀。
本發明有益效果。
本發明利用脫鎂硼泥為主要原料,氫氧化鈉作為堿激發劑,將泡沫劑加入到預制的脫鎂硼泥漿料中,1050℃燒結得到了堿激發的泡沫材料。考察泡沫加入量對泡沫材料性能的影響,分析了堿激發處理對泡沫材料的影響。當泡沫加入量為5%時,材料密度為0.90g/cm3,導熱系數為0.1866W/(m·K),強度達到6.5MPa;當泡沫加入量為10%時,材料密度為0.625g/cm3,抗壓強度為1.15MPa,吸水率為115%。制備的泡沫材料在保溫節能材料、吸水材料和滲透材料等領域具有潛在的廣闊應用空間。
具體實施方式
本發明采用以下步驟。
1)稱取一定量硼泥,加入適量水成漿料,加入硫酸與漿料混合,反應期間輔以間歇性攪拌。
2)將混合液過濾,并洗滌,得到的濾液經純化處理得到工業級的硫酸鎂;得到的固體濾渣即為脫鎂硼泥。
3)將脫鎂硼泥在烘箱干燥,然后球磨,得到的固體通過篩,稱取一定量干燥磨細的脫鎂硼泥放入聚四氟乙烯容器中。
4)加入適量的氫氧化鈉水溶液,充分攪拌得到均勻的漿料;然后加入一定量由發泡劑水溶液振動發泡得到的泡沫劑,再次攪拌使其混合均勻,倒入模具成型;將其放入烘箱干燥,然后脫模。
5)放入馬弗爐從室溫升到燒結溫度,并保溫,然后自然冷卻至室溫,得到泡沫材料。
所述步驟3)將脫鎂硼泥在120℃的烘箱干燥12h,然后球磨1h,得到的固體通過120目篩。;所述步驟4),使氫氧化鈉質量分數為5%,后加入一定量由發泡劑含量為10%的水溶液振動發泡得到的泡沫劑,再次攪拌使其混合均勻,倒入模具成型。將其放入105℃烘箱干燥24h,然后脫模;所述步驟5)放入馬弗爐以2~3℃/min的升溫速率從室溫升到燒結溫度1050℃,并保溫1h。
本發明制備過程采用WE-30型液壓機,采用DRXL-Ⅰ導熱系數測試儀,采用JSM-5600LV掃描電子顯微鏡,采用用RigakuD/max2400X射線衍射儀。
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