[發明專利]一種陣列基板的檢測方法和設備

有效

• 申請號: 201410370657.7
• 申請日: 2014-07-30
• 公開（公告）號: CN104157229A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 裴曉光;趙海生;肖志蓮;林子錦
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G09G3/00
• 分類號: G09G3/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板的檢測方法，其特征在于，包括：

預先設定同樣面積內，圖像傳感器像素組個數與陣列基板上同行或同列的TFT像素個數的對應關系，所述對應關系為1：N，N為大于或等于2的整數；

以所述對應關系確定N次檢測動作中，每一次檢測過程中入射光入射分光鏡的入射角較前一次檢測過程中入射光入射分光鏡的入射角的偏移量；

根據所述偏移量在N次檢測過程中，調節當前入射光入射分光鏡的入射角，使當前檢測過程中相比前一次檢測過程，每一所述圖像傳感器像素組接收的反射光所對應的N個所述TFT像素的位置沿規定方向平移一個所述TFT像素；

根據N次檢測過程中各所述圖像傳感器像素組采集的光強度結果，確定不良所述TFT像素的位置。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述調節當前入射光入射分光鏡的入射角，包括：

通過調整調整光源的位置，調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述調節當前入射光入射分光鏡的入射角，包括：

通過調整分光鏡，調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述調節當前入射光入射分光鏡的入射角，包括：

設置N個光源，且每一光源對應一所述偏移量所對應的入射角；

通過應用不同的光源調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

5.如權利要求1至4任一項所述的方法，其特征在于，所述規定方向為行方向；或者，

所述規定方向為列方向。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據N次檢測過程中各所述圖像傳感器像素組得到的檢測結果，確定不良所述TFT像素的位置，包括：

根據多個所述圖像傳感器像素組得到的、包括同一所述TFT像素的光強度結果，確定每一所述光強度結果表征的平均電壓值，若各所述平均電壓值不相等，則確定該所述TFT像素不良。

7.一種陣列基板的像素檢測設備，其特征在于，包括：

設置單元，用于設定圖像傳感器像素組與陣列基板上同行或同列的TFT像素的對應關系，所述對應關系為1：N，N為大于或等于2的整數；

偏移量單元，用于以所述對應關系確定N次檢測動作中，每一次檢測過程中入射光入射分光鏡的入射角較前一次檢測過程中入射光入射分光鏡的入射角的偏移量；

入射角調整單元，用于根據所述偏移量在N次檢測過程中，調節當前入射光入射分光鏡的入射角，使當前檢測過程中相比前一次檢測過程，每一所述圖像傳感器像素組接收的反射光所對應的N個所述TFT像素的位置沿規定方向平移一個所述TFT像素；

結果判定單元，用于根據N次檢測過程中各所述圖像傳感器像素組采集的光強度結果，確定不良所述TFT像素的位置。

8.如權利要求7所述的設備，其特征在于，所述入射角調整單元，通過調整光源的位置，調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

9.如權利要求7所述的設備，其特征在于，所述入射角調整單元，通過調整分光鏡，調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

10.如權利要求7所述的設備，其特征在于，所述檢測設備包括N個光源，且每一光源對應一所述偏移量所對應的入射角；

所述入射角調整單元，通過應用不同的光源調節當前入射光入射分光鏡的入射角。

11.如權利要求7所述的設備，其特征在于，所述結果判定單元，根據多個所述圖像傳感器像素組得到的、包括同一所述TFT像素的光強度結果，確定每一所述光強度結果表征的平均電壓值，若各所述平均電壓值不相等，則確定該所述TFT像素不良。