[發明專利]三維成像系統、其部件以及三維成像的方法

無效

• 申請號: 201410368505.3
• 申請日: 2012-09-25
• 公開（公告）號: CN104191614A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: C.R.斯佩里;D.F.麥克納馬拉;M.A.約翰遜;R.O.格雷戈里二世;C.J.維林
• 申請（專利權）人: 3D系統公司
• 主分類號: B29C67/00
• 分類號: B29C67/00;G03F7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;譚祐祥

1.?一種用于從實體成像材料制備三維物體的實體成像設備，所述實體成像設備包括：

儲盒，其包括實體成像材料的供應源；

一次性托盤，其保持從所述儲盒分配的實體成像材料；以及

成像器，其將光化輻射投射到所述一次性托盤中的實體成像材料的層上，以選擇性地固化實體成像材料的所述層，

其中，所述一次性托盤限定側壁、底部表面和對輻射透明的膜，所述對輻射透明的膜粘附到所述側壁和所述底部表面中的至少一個，使得當所述托盤定位在所述實體成像設備中時，所述光化輻射被投射通過所述對輻射透明的膜以選擇性地固化實體成像材料的所述層。

2.?根據權利要求1所述的實體成像設備，其特征在于，還包括用于接納所述托盤的框架。

3.?根據權利要求2所述的實體成像設備，其特征在于，所述框架還包括帶有對輻射透明的支撐表面的凹部，所述托盤被接納在所述支撐表面上。

4.?根據權利要求3所述的實體成像設備，其特征在于，還包括基本上圍繞所述對輻射透明的支撐表面的襯墊，并且包括在所述凹部中的空氣通道，所述空氣通道適于在所述對輻射透明的膜與所述對輻射透明的支撐表面之間選擇性地提供正空氣壓力和負空氣壓力。

5.?根據權利要求2所述的實體成像設備，其特征在于，還包括導軌，其能夠相對于所述框架升高以允許所述托盤的加載和卸載。

6.?根據權利要求1所述的實體成像設備，其特征在于，還包括傳感器，其將光信號傳輸通過所述托盤的所述對輻射透明的膜，以用于測量所述托盤中的實體成像材料的量。

7.?一種將新托盤和新涂布器刮條安裝到實體成像設備中的方法，所述方法包括：

打開所述實體成像設備的外門，以觸及用過的托盤和用過的涂布器刮條；

從所述實體成像裝置移除所述用過的托盤和用過的涂布器刮條；

將所述新托盤和新涂布器刮條大體上定位在所述用過的托盤和用過的涂布器刮條的先前位置中；以及

關閉所述實體成像設備的所述外門；

其中，在打開所述外門之前，所述實體成像設備的成像器將光化輻射投射到所述托盤上，以固化在所述用過的托盤內的基本上所有未固化的實體成像材料。

8.?根據權利要求7所述的方法，其特征在于，還包括：在移除所述用過的托盤之前，升高所述實體成像設備的導軌，以使所述用過的托盤離開所述實體成像設備的框架；以及在定位所述新托盤之后，降低所述導軌，以將所述新托盤保持在所述框架中。

9.?根據權利要求8所述的方法，其特征在于，升高所述導軌包括也升高所述實體成像設備的梭子和儲盒。

10.?根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述用過的涂布器刮條連接到所述梭子。

11.?根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述導軌連接到提升輔助裝置以使得所述導軌能夠停留在升高位置，直到所述導軌被降低為止。

12.?根據權利要求7所述的方法，其特征在于，定位所述新托盤包括將所述新托盤置于襯墊上，該襯墊圍繞所述實體成像設備的對輻射透明的支撐表面。

13.?一種用于在實體成像設備中使用的一次性托盤，所述實體成像設備通過使實體成像材料暴露于光化輻射而制備三維物體，所述一次性托盤包括：

側壁，其限定足以保持一定量的實體成像材料的高度；

連接到所述側壁的底部表面，其中所述底部表面限定開口；

對輻射透明的膜，其粘附到所述側壁和所述底部表面中的至少一個以覆蓋所述開口，使得當所述托盤定位在所述實體成像設備中時，所述光化輻射被投射通過所述對輻射透明的膜以選擇性地固化所述托盤中一定量的實體成像材料；以及

過濾器。

14.?根據權利要求13所述的一次性托盤，其特征在于，所述側壁和底部表面包括塑性材料，并且所述對輻射透明的膜包括氟化乙丙烯膜和聚四氟乙烯膜中的至少一種。

15.?根據權利要求13所述的一次性托盤，其特征在于，所述底部表面和所述對輻射透明的膜中的至少一個在它們被粘附的區域中被紋理化，以便在所述底部表面與所述對輻射透明的膜之間提供更好的粘附。