[發(fā)明專(zhuān)利]雙層三明治型Y金屬酞菁配合物在微接觸印刷中的應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410368226.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104177915A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇煒;李培源;肖琦;黃珊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 廣西師范學(xué)院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C09D11/037 | 分類(lèi)號(hào): | C09D11/037;C23C18/20 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530001 廣西壯族自*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雙層 三明治 金屬 配合 接觸 印刷 中的 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于現(xiàn)代電子技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種雙層三明治型Y金屬酞菁配合物作為綠色環(huán)保墨水在微接觸印刷中的應(yīng)用。
背景技術(shù)
表面微構(gòu)建技術(shù)正逐漸體現(xiàn)出在重要應(yīng)用價(jià)值,特別是微接觸印刷技術(shù),其能夠在小尺寸上微圖案化,在多個(gè)領(lǐng)域特別是現(xiàn)代電子技術(shù)領(lǐng)域具有重要意義。目前可供選擇的微接觸印刷墨水較少,也局限了表面可進(jìn)行微接觸印刷的材料,大量的材料無(wú)法用微接觸印刷的方法制備表面圖案。因而開(kāi)發(fā)新的、穩(wěn)定的的墨水具有很大的意義。
本申請(qǐng)人在已獲授權(quán)的專(zhuān)利(CN102516841B)中公開(kāi)了八(辛烷氧基)-酞菁鋅作為墨水在聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯或聚酰亞胺基底進(jìn)行微接觸印刷的應(yīng)用技術(shù);在已獲授權(quán)的專(zhuān)利(CN102964909B)中公開(kāi)了水溶性的5,10,15,20-四[4-(3’-丙氧基吡啶溴化鹽)苯基]卟啉鋅在聚對(duì)苯二甲酸乙二酯基底上進(jìn)行微接觸印刷中的應(yīng)用技術(shù);在已獲授權(quán)的專(zhuān)利(CN102964910B)中公開(kāi)了水溶性的5,10,15,20-四磺酸鈉苯基卟啉鋅在聚酰亞胺基底進(jìn)行微接觸印刷的應(yīng)用技術(shù)。
為進(jìn)一步豐富微接觸印刷墨水和基底的選擇,并且提升微接觸印刷質(zhì)量,有必要進(jìn)一步開(kāi)發(fā)金屬酞菁配合物在微接觸印刷中的應(yīng)用。雙層三明治型Y金屬酞菁配合物性能穩(wěn)定,成膜質(zhì)量高,可以作為一種穩(wěn)定的墨水應(yīng)用于多種材料表面的微接觸印刷。目前雙層三明治型Y金屬酞菁配合物作為微接觸印刷墨水的應(yīng)用未見(jiàn)報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種雙層三明治型Y金屬酞菁配合物作為一種新的墨水在聚甲基丙烯酸甲酯基底上進(jìn)行微接觸印刷的應(yīng)用。所采用的技術(shù)方案是:
本發(fā)明提出的雙層三明治型Y金屬酞菁配合物為二酞菁配Y,具有以下結(jié)構(gòu)式:
將二酞菁配Y的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷的印刷劑,將PDMS印章的圖案轉(zhuǎn)移至羧基化的聚甲基丙烯酸甲酯基底,再通過(guò)化學(xué)鍍的方法在基底上得到精美的金屬圖案。
具體步驟如下:
1.基底羧基化
基底為聚甲基丙烯酸甲酯,將基底材料用45-55%的異丙醇水溶液浸泡30-60min,再用2-3mol/L硫酸在55-65℃條件下浸泡15-20min,隨后用水清洗,60-65℃真空干燥,得到羧基化基底。
2.制備二酞菁配Y的二氯甲烷溶液
將二酞菁配Y用二氯甲烷溶解,得到濃度為2-5g/L的二酞菁配Y二氯甲烷溶液。
3.微接觸印刷
將PDMS印章浸泡于二酞菁配Y二氯甲烷溶液中30-40s,取出后于N2氣流中干燥30-60s,將涂有二酞菁配Y二氯甲烷溶液的PDMS印章蓋于羧基化基底上,輕壓10-20s,將PDMS印章圖案轉(zhuǎn)移至基底表面,得到印有圖案的基底。
4.化學(xué)鍍
將印有圖案的基底浸泡于0.1g/L?PdCl2溶液中10-30s,取出后放于由4-6wt%硫酸銅、7wt%酒石酸鈉鉀、6wt%氫氧化鈉、32wt%甲醛和余量的蒸餾水化學(xué)鍍銅液中進(jìn)行化學(xué)鍍,時(shí)間為1-10min。取出后即可在基底上得到精美的金屬銅圖案。
本發(fā)明的有益效果為:
1.通過(guò)將二酞菁配Y二氯甲烷溶液作為微接觸印刷墨水在電子行業(yè)常用的聚甲基丙烯酸甲酯基底表面制備金屬圖案,為微接觸印刷行業(yè)提供了新思路。
2.相對(duì)于單層金屬酞菁配合物,雙層三明治型Y金屬酞菁配合物具有一些特殊性質(zhì),二酞菁配Y由于有強(qiáng)烈的π-π鍵作用,所以在成膜時(shí),要比單層金屬酞菁配合物更為穩(wěn)定;同時(shí),相對(duì)于單層金屬酞菁配合物,其氧化還原電位更窄,可在化學(xué)鍍過(guò)程中穩(wěn)定反應(yīng),獲得分辨率更高的精細(xì)圖案。
3.二酞菁配Y二氯甲烷溶液原料易得、成本低、穩(wěn)定,在工業(yè)應(yīng)用上具有很大的潛力。
具體實(shí)施方式
以下對(duì)本發(fā)明中做進(jìn)一步說(shuō)明:
實(shí)施例1
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于廣西師范學(xué)院;,未經(jīng)廣西師范學(xué)院;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410368226.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)





