[發明專利]液晶透鏡成像裝置及液晶透鏡成像方法

有效

• 申請號: 201410367919.4
• 申請日: 2014-07-29
• 公開（公告）號: CN105301863B
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發明（設計）人: 崔春暉;葉茂
• 申請（專利權）人: 深圳市墨克瑞光電子研究院
• 主分類號: G02F1/29
• 分類號: G02F1/29
• 代理公司: 深圳市凱達知識產權事務所44256
• 代理人: 任轉英

1.一種液晶透鏡成像方法，其特征在于，包括：

驅動液晶透鏡，使其在對焦狀態下生成對焦圖像，在非對焦狀態下生成散焦圖像，利用所述散焦圖像對所述對焦圖像進行處理而獲得新對焦圖像；

根據所述對焦圖像和所述散焦圖像的相關性獲知所述新對焦圖像的噪點和紋理區域，從而形成噪點位置圖像和紋理位置圖像；

基于所述噪點位置圖像去除所述新對焦圖像的噪點；以及

基于所述紋理位置圖像去除所述新對焦圖像的紋理區域的噪聲。

2.根據權利要求1所述的液晶透鏡成像方法，其特征在于，根據所述對焦圖像和所述散焦圖像的相關性，并進行多次噪點檢測以獲知所述新對焦圖像的噪點和紋理區域。

3.根據權利要求1所述的液晶透鏡成像方法，其特征在于，進一步包括：基于所述紋理位置圖像去除所述新對焦圖像的平滑區域的噪聲。

4.根據權利要求3所述的液晶透鏡成像方法，其特征在于，所述根據所述對焦圖像和所述散焦圖像的相關性獲知所述新對焦圖像的噪點和紋理區域，從而形成噪點位置圖像和紋理位置圖像具體包括基于如下公式獲得二值圖像：

Im=1|If-Ir|>tm0|If-Ir|≤tm]]>

其中，I_f是對焦圖像，I_r是散焦圖像，I_m為由所述新對焦圖像生成的二值圖像，t_m為檢測閾值，I_m中取值為1的像素點表示所述二值圖像中的亮點，I_m中取值為0的像素點表示所述二值圖像的平滑區域。

5.根據權利要求4所述的液晶透鏡成像方法，其特征在于，對所述二值圖像中的每個亮點進行第一次噪點檢測，定義一個第一尺寸的鄰域s₁和對應的第一檢測閾值t₁，當所述第一尺寸的鄰域s₁內的亮點總數小于所述第一檢測閾值t₁時，將所述第一尺寸的鄰域s₁內的亮點視為噪點，當所述第一尺寸的鄰域s₁內的亮點總數大于或者等于所述第一檢測閾值t₁時，將所述第一尺寸的鄰域內s₁的亮點視為紋理，所有紋理的集合為紋理區域。

6.根據權利要求5所述的液晶透鏡成像方法，其特征在于，對經所述第一次噪點檢測的紋理區域進行形態擴張，再進行等尺度的形態腐蝕，分離出所述第一次噪點檢測中漏檢的噪點。