[發明專利]記錄裝置在審
| 申請號: | 201410367316.4 | 申請日: | 2014-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN104339880A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木恒之 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | B41J11/00 | 分類號: | B41J11/00 |
| 代理公司: | 北京金信知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 黃威;蘇萌萌 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 裝置 | ||
1.一種記錄裝置,其特征在于,具有:
電磁波照射部,其照射電磁波,并利用所述電磁波而使油墨干燥;
第一介質支承部,其在所述電磁波照射部的照射區域內對被記錄介質進行支承,并且在所述第一介質支承部上設置有開口部,所述開口部供如下的蒸汽穿過,所述蒸汽為,因所述電磁波照射部的電磁波照射而從噴出在所述被記錄介質上的油墨中蒸發出的蒸汽;
第二介質支承部,其以與所述第一介質支承部相鄰的方式被設置,并且所述第二介質支承部的熱傳導率與所述第一介質支承部相比而較低。
2.如權利要求1所述的記錄裝置,其特征在于,
具有輸送部,所述輸送部對所述被記錄介質進行輸送,
在由所述輸送部輸送所述被記錄介質的輸送方向上,以與所述第一介質支承部的至少一側相鄰的方式設置有所述第二介質支承部。
3.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
第二介質支承部的熱傳導率為0.057w/(m·k)以上30w/(m·k)以下。
4.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
所述第一介質支承部對所述被記錄介質進行支承的所述被記錄介質的支承面積,小于所述第二介質支承部對所述被記錄介質進行支承的所述被記錄介質的支承面積。
5.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
因所述電磁波照射部的電磁波照射而從噴出在所述被記錄介質上的所述油墨中蒸發出的蒸汽發生結露而產生的液滴在所述第二介質支承部上的接觸角,大于所述液滴在所述第一介質支承部上的接觸角。
6.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
具有結露部,所述結露部使穿過了所述開口部的所述蒸汽發生結露。
7.如權利要求6所述的記錄裝置,其特征在于,
所述結露部的熱傳導率高于所述第二介質支承部的熱傳導率。
8.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
具備輸送部,所述輸送部對所述被記錄介質進行輸送,
與所述輸送部輸送所述被記錄介質的輸送方向交叉的交叉方向上的所述電磁波照射部的電磁波的照射長度,對應于所述交叉方向上的所述第一介質支承部的長度。
9.如權利要求1或2所述的記錄裝置,其特征在于,
從所述電磁波照射部的電磁波的照射區域至所述第二介質支承部為止的距離為20mm以下。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于精工愛普生株式會社,未經精工愛普生株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410367316.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





