[發明專利]X波段準光腔材料的測定方法及其介電常數測量方法

有效

• 申請號: 201410367101.2
• 申請日: 2014-07-29
• 公開（公告）號: CN104155527B
• 公開（公告）日: 2017-05-17
• 發明（設計）人: 張娜;成俊杰;張國華;高春彥;楊初
• 申請（專利權）人: 北京無線電計量測試研究所
• 主分類號: G01R27/26
• 分類號: G01R27/26
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司11257
• 代理人: 張文祎

1.X波段準光腔材料的測定方法，其特征在于，該測定方法包括如下步驟：

1)根據準光腔腔體材質或鍍層材質確定趨膚深度；

2)根據準光腔品質因數和趨膚深度Q確定腔長D取值范圍；

3)根據準光腔曲率因子和本征譜線純度確定球面鏡曲率半徑R取值范圍；

4)確定準光腔球面鏡口徑A1為350mm；

5)確定準光腔平面鏡直徑A2為250mm；

6)確定準光腔的信號耦合性，所述準光腔的球面鏡頂端與耦合波導的底端固定連接使得所述球面鏡中心位置的球頂位于所述耦合波導上且與所述耦合波導成為一體，所述耦合波導的兩個耦合孔中間切割出0.5mm的縫隙，該縫隙與輸入和輸出兩個波導口間的波導壁焊接。

2.根據權利要求1所述的X波段準光腔材料的測定方法，其特征在于，

所述腔體材質采用黃銅時，在8.2GHz～12.4GHz頻率范圍，趨膚深度δ＝(1.14～1.4)um；

所述品質因數Q大于8萬時，由式(1)得到D大于224.4mm，選取D＝250mm；D＞2δQ(1)

所述球面鏡曲率半徑R∈[320mm,333mm]。

3.利用基于如權利要求1所述的X波段準光腔材料的測定方法得到的X波段準光腔對材料進行測量介電常數的方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：

1)在X波段準光腔工作頻段內等間隔選擇多個測試頻點；

2)對所述多個測試頻點下，被測樣品進行介電常數測量，得到各個介電常數結果；

3)將所述各個介電常數結果進行描點，得到介電常數的起伏曲線；

4)取所述起伏曲線的中心值，該中心值即為被測樣品最終介電常數結果。