[發(fā)明專利]掩膜板及其制造方法和目標(biāo)圖形的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410363655.5
• 申請(qǐng)日: 2014-07-28
• 公開（公告）號(hào): CN104199209A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪棟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335;G02F1/1339;G03F1/68
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種掩膜板，包括基底和位于所述基底之上的至少一個(gè)遮光區(qū)域和至少一個(gè)開口區(qū)域，所述開口區(qū)域用于形成目標(biāo)圖形，其特征在于，至少一個(gè)所述開口區(qū)域中設(shè)置有至少一個(gè)遮光結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光結(jié)構(gòu)為條狀結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述開口區(qū)域中所述遮光結(jié)構(gòu)的數(shù)量為一個(gè)時(shí)，所述開口區(qū)域中所述遮光結(jié)構(gòu)位于所述開口區(qū)域的中心線上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述開口區(qū)域中所述遮光結(jié)構(gòu)的數(shù)量為二個(gè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述開口區(qū)域中二個(gè)所述遮光結(jié)構(gòu)對(duì)稱分布于所述開口區(qū)域的中心線的兩側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述目標(biāo)圖形包括黑矩陣、彩色矩陣圖形或者隔墊物。

7.一種掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：

在基底之上形成遮光材料層；

對(duì)所述遮光材料層進(jìn)行構(gòu)圖工藝形成至少一個(gè)遮光區(qū)域、至少一個(gè)開口區(qū)域和至少一個(gè)遮光結(jié)構(gòu)，所述開口區(qū)域用于形成目標(biāo)圖形，所述開口區(qū)域中設(shè)置有至少一個(gè)遮光結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述開口區(qū)域中所述遮光結(jié)構(gòu)的數(shù)量為一個(gè)或者二個(gè)。

9.一種目標(biāo)圖形的制造方法，其特征在于，包括：

在襯底基板的上方形成目標(biāo)材料層；

在所述目標(biāo)材料層之上形成光刻膠；

將所述掩膜板設(shè)置于所述襯底基板的上方，所述掩膜板采用上述權(quán)利要求1至6任一所述的掩膜板；

通過所述掩膜板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光處理，形成曝光部分和未曝光部分，所述曝光部分對(duì)應(yīng)于所述開口區(qū)域，所述未曝光部分對(duì)應(yīng)于所述遮光區(qū)域；

對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，去除所述未曝光部分并保留所述曝光部分；

對(duì)所述襯底基板進(jìn)行刻蝕，形成所述目標(biāo)圖形；

去除所述曝光部分。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的目標(biāo)圖形的制造方法，其特征在于，所述目標(biāo)圖形包括黑矩陣、彩色矩陣圖形或者隔墊物。