[發明專利]光耦合裝置及光模塊

在審

• 申請號: 201410363471.9
• 申請日: 2014-07-26
• 公開（公告）號: CN104166184A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 陳俠;秦振凱;傅正華;張源
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G02B6/34
• 分類號: G02B6/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及光通信技術領域，尤其涉及一種光耦合裝置及光模塊。?

背景技術

光波導(Optical?Waveguide)是由光透明介質(如石英玻璃)構成的用于傳輸光頻電磁波的導行結構，平面光波導(PLC，Planar?Light?wave?Circuit)是指光波導位于同一個平面內。參閱附圖1a，為現有技術提供的一種光耦合裝置。該光耦合裝置包括設置在上層基底上的上層平面光波導和設置在下層基底上的下層平面光波導，下層平面光波導的一端與下層光柵耦合器連接，上層平面光波導的一端與上層光柵耦合器連接，上下基底之間通過定為結構固定連接。在該方案中，為實現將下層平面光波導內傳輸的光要耦合到上層平面光波導中，需將下層平面光波導內傳輸的光傳輸到下層光柵耦合器中，經下層光柵耦合器對光的模場大小和傳播方向進行調整后，傳輸到上層光柵耦合器中，同樣的，經上層光柵耦合器對光的模場大小和傳播方向進行調整后，耦合到上層平面光波導中。這種耦合方式需要使用兩個光柵耦合器，要制備一個有效的光柵耦合器，需要受平面光波導的尺寸以及材料的折射率的限制等，制備工藝比較復雜，從而導致該光耦合裝置的制備工藝比較復雜，且制備成本較高。?

發明內容

本發明提供一種光耦合裝置，用于解決現有技術中存在的光耦合裝置的制備工藝比較復雜度，且制備成本較高的技術問題。?

第一方面，本發明實施例提供一種光耦合裝置，該包括第一平面光波導、第二平面光波導和光柵耦合器，所述第一平面光波導的截面尺寸大于所述第二平面光波導的截面尺寸，?

所述光柵耦合器與所述第二平面光波導的一端相連通，所述第一平面光波導與所述光柵耦合器相對應的位置設置一反射端面，所述反射端面與所述第一平面光波導的延伸方向之間的夾角大于0°且小于90°；光從所述第二平面光波導傳輸到所述光柵耦合器后，從所述光柵耦合器傳播到所述反射端面，并經所述反射端面反射后形成的出射光的截面和所述第一平面光波導的光模場的截面至少有部分重合，且重合部分的所述出射光的傳播方向在所述光模場的傳播方向上存在分量，以實現將與所述光模場的截面相重合且在所述光模場的傳播方向上存在分量的部分所述出射光耦合到所述第一平面光波導中并在所述第一平面光波導中傳輸。?

結合第一方面，在第一種可能的實現方式下，所述光柵耦合器的光模場的截面尺寸小于或者等于所述第一平面光波導的光模場的截面尺寸，以使光從所述光柵耦合器傳播到所述反射端面，并經所述反射端面反射后形成的出射光的截面和所述第一平面光波導的光模場的截面相重合。?

結合第一方面的第一種可能的實現方式，在第二種可能的實現方式下，所述出射光的傳播方向與所述第一平面光波導的光模場的傳播方向相同。?

結合第一方面、第一方面的第一種可能的實現方式或者第一方面的第二種可能的實現方式，在第三種可能的實現方式下，所述第一平面光波導和所述第二平面光波導的間距大于0且小于200μm。?

結合第一方面、第一方面的第一種可能的實現方式或者第一方面的第三種可能的實現方式，在第四種可能的實現方式下，所述光柵耦合器和所述第一平面光波導內對應于所述光柵耦合器的波導段之間存在透光介質。?

結合第一方面或者第一方面的第一種可能的實現方式至第一方面的第四種可能的實現方式中任一種實現方式，在第五種可能的實現方式下，所述第一平面光波導的外表面包裹有保護層，且所述第一平面光波導內對應于所述光柵耦合器的波導段的外表面包裹的保護層使用透光材料制成。?

結合第一方面或者第一方面的第一種可能的實現方式至第一方面的第五種可能的實現方式中任一種實現方式，在第六種可能的實現方式下，所述反射端面上覆蓋有一層鍍膜，或者，所述反射端面經過了研磨拋光處理。?

結合第一方面或者第一方面的第一種可能的實現方式至第一方面的第六種可能的實現方式中任一種實現方式，在第七種可能的實現方式下，還包括第一基底和第二基底：?

所述第一平面光波導設置在所述第一基底上，所述第二平面光波導設置在所述第二基底上，所述第一基底位于所述第一平面光波導與所述第二平面光波導相背離的一側，所述第二基底位于所述第二平面光波導與所述第一平面光波導相背離的一側。?

結合第一方面的第七種可能的實現方式，在第八種可能的實現方式下，所述第一基底和所述第二基底之間定位連接。?