[發(fā)明專利]光學(xué)式編碼器用遮光板、其制造方法及使用其的光學(xué)式編碼器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410363285.5
• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104422467B
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 河村陸男;尾崎英朗;寺西宏真;酒井貴浩
• 申請（專利權(quán)）人: 歐姆龍株式會社
• 主分類號: G01D5/32
• 分類號: G01D5/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所11105
• 代理人: 張勁松

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)式編碼器，尤其是轉(zhuǎn)動或滑動移動的光學(xué)式編碼器用遮光板、其制造方法及使用其的光學(xué)式編碼器。

背景技術(shù)

目前，作為光學(xué)式編碼器用遮光板，例如如圖4所示，有距轉(zhuǎn)動軸2的軸心在同一半徑上形成了貫通孔3的光學(xué)式編碼器用遮光板1。而且，通過上述貫通孔3的光源4的光由受光元件5檢測，由此，上述轉(zhuǎn)動軸2的轉(zhuǎn)動角度作為輸出信號向控制設(shè)備等輸出。

作為上述光學(xué)式編碼器用遮光板的制造方法，例如，有如下的光學(xué)式旋轉(zhuǎn)編碼器的狹縫板的制造方法，其特征在于，包括：在狹縫板用的金屬基材的兩面形成由不同的金屬原材料構(gòu)成的金屬薄膜的薄膜形成工序、對上述金屬薄膜及上述金屬基材實(shí)施蝕刻加工形成狹縫的蝕刻工序，選擇這些金屬薄膜及金屬基材的材質(zhì)，以使上述金屬薄膜的蝕刻速度比上述金屬基材的蝕刻速度慢(參照專利文獻(xiàn)1)。

專利文獻(xiàn)1：(日本)特開2004－125734號公報

但是，上述的光學(xué)式旋轉(zhuǎn)編碼器的狹縫板的制造方法為以在金屬基材的表背面上形成金屬薄膜的3層構(gòu)造的基材為前提的制造方法，因此，制造工序多，生產(chǎn)率低。

另外，由于通過蝕刻加工形成狹縫，因此，為了形成尺寸精度高的狹縫，需要進(jìn)行嚴(yán)格的時間管理，制造費(fèi)工時。尤其是，在通過蝕刻加工而形成狹縫時，開口緣部容易成為R面，容易產(chǎn)生光的漫反射，因此，存在難以獲得高的測定精度的問題。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述問題點(diǎn)，本發(fā)明的光學(xué)式編碼器用遮光板作為課題提供一種容易制造且生產(chǎn)率及測定精度高的光學(xué)式編碼器用遮光板。

為解決所述課題，本發(fā)明的光學(xué)式編碼器用遮光板構(gòu)成為，在多個并設(shè)的架橋部之間具有狹縫，使光從所述狹縫入射，其中，在導(dǎo)電性原盤主體的露出面上并設(shè)多個空腔后，將所述導(dǎo)電性原盤主體浸漬在電解液中并施加電壓，將所述空腔內(nèi)的所述導(dǎo)電性原盤主體的露出面上電沉積的金屬層中的、所述導(dǎo)電性原盤主體的露出面?zhèn)鹊脑P面配置于光入射方向側(cè)。

根據(jù)本發(fā)明，在導(dǎo)電性原盤的露出面使金屬直接電沉積而形成光學(xué)式編碼器用遮光板，因此，可獲得制造工序少，生產(chǎn)率高的光學(xué)式編碼器用遮光板。

另外，由于可調(diào)整電壓施加時間并調(diào)整所述架橋部的高度，因此，容易進(jìn)行時間管理，制造比較容易。尤其是，由于不用蝕刻加工形成狹縫，因此，開口緣部難以成為R面，能夠抑制光的漫反射，因此，可獲得測定精度高的光學(xué)式編碼器用遮光板。

作為本發(fā)明的實(shí)施方式，也可以為，所述架橋部與相鄰的其它架橋部的對向面沿著從所述導(dǎo)電性原盤主體的露出面朝向所述空腔的開口部的方向擴(kuò)展的方向傾斜。

根據(jù)本實(shí)施方式，從狹縫的寬度變窄的開口部入射的光不會向?qū)ο虻膬?nèi)側(cè)面漫反射而射出，因此，干擾減少，測定精度提高。

作為本發(fā)明的其它的實(shí)施方式，也可以是，所述傾斜面相對于所述電壓的施加方向的傾斜角度為大于零度且不超過30度的范圍。

當(dāng)為零度以下時，入射光可能在架橋部15的內(nèi)側(cè)面引起漫反射，當(dāng)超過30度時，架橋部15不能保持必要的寬度尺寸，相鄰的狹縫16可能連結(jié)。

作為本發(fā)明的不同的實(shí)施方式，也可以為，將設(shè)于所述導(dǎo)電性原盤主體的露出面的梨皮形狀(皺紋形狀)轉(zhuǎn)印到所述架橋部的單面。

根據(jù)本實(shí)施方式，可防止所述梨皮形狀使光反射而成為干擾，可以改善測定精度。

作為本發(fā)明的新的實(shí)施方式，所述光學(xué)式編碼器用遮光板也可以是旋轉(zhuǎn)編碼器用遮光板、或線性編碼器用遮光板。

根據(jù)本實(shí)施方式，可根據(jù)需要適當(dāng)選擇，因此，可獲得能夠在各種各樣的用途中適用的編碼器用遮光板。

為解決所述課題，本發(fā)明提供光學(xué)式編碼器用遮光板的制造方法為在多個并設(shè)的架橋部間形成狹縫的光學(xué)式編碼器用遮光板的制造方法，其工序?yàn)?，在?dǎo)電性原盤主體的露出面并設(shè)了多個空腔后，將所述導(dǎo)電性原盤主體浸漬于電解液中并施加電壓，在所述空腔內(nèi)的所述導(dǎo)電性原盤主體的露出面上使金屬電沉積，形成所述架橋部。

根據(jù)本發(fā)明，由于在導(dǎo)電性原盤的表面使金屬直接電沉積而形成光學(xué)式編碼器用遮光板，因此，可獲得制造工序少、生產(chǎn)率高的光學(xué)式編碼器用遮光板。

另外，由于能夠與電壓施加時間成比例地使金屬電沉積，因此，容易進(jìn)行時間管理，制造比較容易。尤其是，由于不用蝕刻加工而形成狹縫，因此，開口緣部難以成為R面，能夠抑制光的漫反射，因此，可獲得測定精度高的光學(xué)式編碼器用遮光板。

本發(fā)明的光學(xué)式編碼器也可以制成具有上述的光學(xué)式編碼器用遮光板的構(gòu)成。