[發明專利]鎂合金結構件表面復合涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201410362919.5
• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104228183A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 王林志;段宣明
• 申請（專利權）人: 中國科學院重慶綠色智能技術研究院
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;C23C28/04;C23C14/48;C23C24/10
• 代理公司: 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275
• 代理人: 孫方

1.鎂合金結構件表面復合涂層，其特征在于：包括基體結合層和表面耐磨層，所述基體結合層為氮離子注入層或氧離子注入層，所述表面耐磨層為激光熔敷SiC層、激光熔敷SiO₂層或激光熔敷SiC、SiO₂復合層，所述離子注入結合層與鎂合金基體結合，所述表面耐磨層與離子注入結合層結合。

2.根據權利要求1所述鎂合金結構件表面復合涂層，其特征在于：所述氮離子注入層或氧離子注入層的厚度為10～50μm，所述表面耐磨層厚度為0.1～2mm。

3.根據權利要求1所述鎂合金結構件表面復合涂層，其特征在于：所述鎂合金基體采用3D打印方法制得。

4.制備權利要求1-3任意一項所述鎂合金結構件表面復合涂層的方法，首先在鎂合金基體表面原位制備基體結合層，然后在基體結合層上激光熔敷制備表面耐磨層，其特征在于，基體結合層制備步驟如下：

1)鎂合金預處理：對鎂合金表面噴砂處理并清洗干燥后備用；

2)離子注入：采用等離子體浸沒離子注入技術向步驟1)的鎂合金注入氧離子或氮離子，形成基體結合層。

5.根據權利要求4所述制備鎂合金結構件表面復合涂層的方法，其特征在于：離子注入時離子注入能量40～50Kev，注入劑量0.5×10¹⁶cm^-2～2×10¹⁶cm^-2。

6.根據權利要求4所述制備鎂合金結構件表面復合涂層的方法，其特征在于：激光熔敷制備表面耐磨層時所用熔敷材料為SiC粉末、SiO₂粉末或者SiC粉末與SiO₂粉末的任意混合，所述粉末粒徑為10～50μm。

7.根據權利要求4所述制備鎂合金結構件表面復合涂層的方法，其特征在于：激光熔敷制備表面耐磨層時所用激光波長為300nm～10.6μm。

8.根據權利要求4所述制備鎂合金結構件表面復合涂層的方法，其特征在于：激光熔敷制備表面耐磨層時激光器的功率為500W～1000W，掃描速度為1000mm/min～1500mm/min，光斑直徑為0.6mm～1mm，樣品離焦量為10～60mm或-60～-10mm。