[發(fā)明專利]一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝

有效

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• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104098169B
• 公開（公告）日: 2017-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉衛(wèi)斌
• 申請（專利權(quán)）人: 葉衛(wèi)斌
• 主分類號: C02F1/68
• 分類號: C02F1/68;C02F9/08
• 代理公司: 臺(tái)州藍(lán)天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司33229
• 代理人: 劉穎

1.一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：具體步驟如下：

(1)選取原料：選取水溶性硅無定型晶體顆粒或粉末、凈化水備用；

(2)制備高濃度水溶性硅溶液：

按配比取用步驟(1)中準(zhǔn)備的水溶性硅無定型晶體顆粒或粉末、凈化水，并按凈化水:水溶性硅無定型晶體顆粒或粉末＝1:0.5～1.2的比例放入密閉容器內(nèi)，經(jīng)高溫30℃～180℃、加壓1～6個(gè)大氣壓下溶解制成高濃度水溶性硅溶液，剩余凈化水備用；

或?qū)⒉襟E(1)中準(zhǔn)備的凈化水流經(jīng)裝有水溶性硅無定型晶體顆粒的儲(chǔ)存罐，水溶性硅無定型晶體顆粒溶解至溶解罐中貯存，在溶解罐中得到高濃度水溶性硅溶液,溶液的濃度隨時(shí)間的增加而增加，濃度控制在0～10000ppm；

(3)制備低濃度水溶性硅溶液：

人工手動(dòng)：將步驟(2)制備的高濃度水溶性硅溶液加入到凈化水中，使用TDS測試儀檢測數(shù)據(jù)，TDS數(shù)值為0ppm～120ppm，得到低濃度的水溶性硅含有溶液；

或?qū)⒉襟E(2)制備的高濃度水溶性硅溶液通過加藥器加入到凈化水中形成下游水溶液，通過檢測下游水溶液的電導(dǎo)率或PH值控制加藥的速度，使用TDS測試儀檢測數(shù)據(jù)，TDS數(shù)值為0ppm～120ppm，得到低濃度的水溶性硅溶液；

或?qū)⒉襟E(2)制備的高濃度水溶性硅溶液通過加藥器加入到步驟(2)中備用的凈化水中形成下游水溶液，通過檢測的下游水溶液的電導(dǎo)率為0～8500ppm或PH值為7～12.6，以控制加入的高濃度水溶性硅溶液的速度，得到低濃度的水溶性硅溶液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：還包括有步驟(4)過濾：對步驟(2)制備的高濃度水溶性硅溶液進(jìn)行過濾或/和對步驟(3)制備的低濃度水溶性硅溶液進(jìn)行過濾。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制備具有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述的過濾是：經(jīng)過高密度PP棉1um濾芯，阻隔未完全溶解的水溶性硅顆粒及顆粒雜質(zhì)或聚合膠體；或通過活性燒結(jié)炭或顆粒碳阻隔未完全溶解的水溶性硅顆粒及顆粒雜質(zhì)或聚合膠體。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制備具有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：還包括有步驟(5)殺菌：將步驟(4)制備的過濾后的低濃度水溶性硅溶液進(jìn)行殺菌。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種制備具有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述的殺菌是：煮沸殺菌或通過不銹鋼管道紫外線殺菌。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：還包括有步驟(6)存儲(chǔ)：將步驟(5)制備的低濃度水溶性硅溶液存于儲(chǔ)罐或者用于下一道產(chǎn)品工序的加工利用或者在100等級以上的凈化無菌條件下無菌罐裝。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：還包括有步驟(7)貼標(biāo)，陰涼避光處封庫貯存。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述的水溶性硅無定型晶體顆粒或粉末的化學(xué)式為Na₂O·nSiO₂，模數(shù)n為1～4。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述的步驟(2)中所述的按配比取用步驟(1)中準(zhǔn)備的水溶性硅無定型晶體顆粒或粉末、凈化水的配比，即Na₂O·nSiO₂與凈化水的重量配比的計(jì)算公式如下：

Na₂O·nSiO₂：凈化水c＝(n×SiO₂+Na₂O)：(b×H₂O)

其中：配制水的份數(shù)：b＝(n×Si/a-n×SiO₂-Na₂O)/H₂O；

硅含量系數(shù)：a＝硅的日攝入量/水的日均攝入量；

Na的含量：d＝水的日均攝入量×2×Na/(b×H₂O+n×SiO₂+Na₂O)；

硅的含量計(jì)算：e＝水的日均攝入量×n×Si/(b×H₂O+n×SiO₂+Na₂O)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備含有水溶性硅的凈化水的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述的水溶性硅無定型晶體顆粒的直徑為2mm～100mm。