[發(fā)明專利]六工位CCD檢測機遮光暗箱

有效

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• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104101298A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳士波;徐二貴;趙琳娜
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州春田機械有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 北京瑞思知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11341
• 代理人: 袁紅紅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學量測，尤其涉及一種六工位CCD檢測機遮光暗箱。

背景技術(shù)

光學測量是光電技術(shù)與機械測量結(jié)合的高科技。借用計算機技術(shù)，可以實現(xiàn)快速，準確的測量。方便記錄，存儲，打印，查詢等等功能。據(jù)中國儀器超市介紹，光學測量主要應用在現(xiàn)代工業(yè)檢測，主要檢測產(chǎn)品的形位公差以及數(shù)值孔徑等是否合格。主要應用的行業(yè)領(lǐng)域有：金屬制品加工業(yè)、模具、塑膠、五金、齒輪、手機等行業(yè)的檢測，以及工業(yè)界的產(chǎn)品開發(fā)、模具設(shè)計、手扳制作、原版雕刻、RP快速成型、電路檢測等領(lǐng)域。主要儀器表現(xiàn)為：二次元、工具顯微鏡、光學影像測量儀、光學影像投影儀、三次元、三坐標測量機、三維激光抄數(shù)機等。在機械制造行業(yè)中，為了使機加工的產(chǎn)品能達到設(shè)計精度和質(zhì)量要求，除了傳統(tǒng)的物理計量與檢測實現(xiàn)方法，可以運用高性能計算機及軟件技術(shù)、光學、光學成像、聲學與機器動作多種混合技術(shù)實現(xiàn)的邏輯計量與檢測，我們習慣將這些復雜的計量與檢測技術(shù)稱之為非接觸計量與檢測技術(shù)。將這些非接觸計量與檢測技術(shù)應用到為客戶定制的計量與檢測工具和設(shè)備之中，在實際項目中取得了滿意的預期效果。CCD是使用一種高感光度的半導體材料集成，它能夠根據(jù)照射在其面上的光線產(chǎn)生相應的電荷信號，在通過模數(shù)轉(zhuǎn)換器芯片轉(zhuǎn)換成“0”或“1”的數(shù)字信號，這種數(shù)字信號經(jīng)過壓縮和程序排列后，可由閃速存儲器或硬盤卡保存即收光信號轉(zhuǎn)換成計算機能識別的電子圖像信號，可對被側(cè)物體進行準確的測量、分析。傳統(tǒng)的CCD檢測時容易漏光，反光，造成被檢產(chǎn)品誤檢。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種提高了檢測效果及穩(wěn)定性，從而提高被檢產(chǎn)品的品質(zhì)等特點的六工位CCD檢測機遮光暗箱。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：一種六工位CCD檢測機遮光暗箱，包括遮光暗箱主體，所述遮光暗箱主體包括外部暗箱、滑軌、遮光罩和內(nèi)部暗箱，所述外部暗箱為底部開放的長方形箱體，所述滑軌上端垂直固定在所述外部暗箱內(nèi)側(cè)，所述內(nèi)部暗箱為頂部開放的長方形箱體，所述內(nèi)部暗箱側(cè)面設(shè)有一個卡扣，所述卡扣可移動的設(shè)置在所述滑軌底端，所述遮光罩為雙層遮光罩，所述內(nèi)部遮光罩鑲嵌在所述外層遮光罩中間槽內(nèi)，所述外層遮光罩固定在所述內(nèi)部暗箱上側(cè)，所述遮光罩框架采用黑色材料制成。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述黑色材料為鋁合金。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述遮光罩定位精度為0.02mm。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述黑色材料通過黑色陽極氧化處理。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述外部暗箱內(nèi)部涂有吸光層。

本發(fā)明的六工位CCD檢測機遮光暗箱具有提高了檢測效果及穩(wěn)定性，從而提高被檢產(chǎn)品的品質(zhì)等特點。

附圖說明

圖1是本發(fā)明六工位CCD檢測機遮光暗箱一較佳實施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1內(nèi)部暗箱的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、外部暗箱，2、滑軌，3、遮光罩，4、內(nèi)部暗箱，4、卡扣。

具體實施方式

以上僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實施，以下以一較佳實施例以及附圖對本發(fā)明的技術(shù)方案作進一步的說明。

參閱圖1，一種六工位CCD檢測機遮光暗箱，包括遮光暗箱主體，所述遮光暗箱主體包括外部暗箱1、滑軌2、遮光罩3和內(nèi)部暗箱4，所述外部暗箱1為底部開放的長方形箱體，所述滑軌2上端垂直固定在所述外部暗箱1內(nèi)側(cè)，所述內(nèi)部暗箱4為頂部開放的長方形箱體，所述內(nèi)部暗箱4側(cè)面設(shè)有一個卡扣41，所述卡扣41可移動的設(shè)置在所述滑軌2底端，所述遮光罩3為雙層遮光罩，所述內(nèi)部遮光罩鑲嵌在所述外層遮光罩中間槽內(nèi)，所述外層遮光罩固定在所述內(nèi)部暗箱4上側(cè)，所述遮光罩3框架采用黑色材料制成。

本發(fā)明的六工位CCD檢測機遮光暗箱，所述外部暗箱為底部開放的長方形箱體，其尺寸為直徑582cm，高337.5cm，外部暗箱內(nèi)壁涂有吸光層，所述遮光罩通過雙層遮光，提高遮光效果，遮光罩框架采用黑色材料及通過發(fā)黑及磨砂處理，外層遮光罩把外部光源遮蔽，內(nèi)遮光罩遮蔽被檢產(chǎn)品的四周框架，防止零件的折射光，杜絕產(chǎn)品本身的反光，所述黑色材料為鋁合金，所述黑色材料通過黑色陽極氧化處理。通過定位精度來保證每工位、每次量測的數(shù)據(jù)準確性，準確保證遮光罩定位精度為0.02mm。因此本發(fā)明的六工位CCD檢測機遮光暗箱具有提高了檢測效果及穩(wěn)定性，從而提高被檢產(chǎn)品的品質(zhì)等特點。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍。