[發明專利]浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法

有效

• 申請號: 201410361764.3
• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104181776A
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 傅新;李星;陳文昱;陳伊驊
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G05B19/418
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 林超

1.?一種浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法，其特征在于：根據目標系統流體的傳輸路線及流體性質，將該系統分為多個具有不同功能的控制模塊；分別制定每個控制模塊各自的工作流程、狀態位及故障位；在控制模塊各自的工作流程中采用阻塞方法進行自動模式下各個控制模塊之間工作流程的時序配合，通過調用控制模塊的接口對手動模式下各個控制模塊的工作流程進行控制。

2.?根據權利要求1所述的一種浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法，其特征在于：所述的控制模塊的工作流程包括待機、開機和關機三個依次進行的工作流程，控制模塊的狀態位包括開機狀態和關機狀態，控制模塊的故障位包括故障狀態和非故障狀態。

3.?根據權利要求1所述的一種浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法，其特征在于：所述的采用阻塞體系進行各個控制模塊之間工作流程的時序配合具體包括以下步驟：各個控制模塊首先同時進入各自的工作流程，當控制模塊之間需時序配合時，在時序配合中的后置控制模塊的工作流程中，對前置控制模塊的狀態位進行判斷，若前置控制模塊的當前狀態位不符合所需要的狀態位時，則后置控制模塊的工作流程阻塞，直到前置控制模塊的狀態位符合所需要的狀態位，則后置控制模塊繼續工作流程。

4.?根據權利要求1所述的一種浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法，其特征在于：當監測到某一控制模塊出現故障時，則該控制模塊對應的故障位設置為故障狀態，同時該控制模塊進入關機流程對故障進行處理，其他控制模塊進入待機流程；當故障經處理排除后，故障處理后的控制模塊故障位設置為非故障狀態，并重新進入工作流程，其他控制模塊繼續各自所需的流程。

5.?根據權利要求1所述的一種浸沒式光刻機流體控制系統的模塊化工作流程控制方法，其特征在于：所述的控制模塊提供開機工作流程和關機工作流程的接口，手動模式下通過調用兩個接口獨立控制每個控制模塊的工作流程。