[發(fā)明專利]體全息存儲演示裝置及高厚度全息光盤組成和制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410361134.6
• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN104217732A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設計）人: 劉鴻鵬;王維波
• 申請（專利權）人: 中國民航大學
• 主分類號: G11B7/007
• 分類號: G11B7/007
• 代理公司: 天津才智專利商標代理有限公司 12108
• 代理人: 龐學欣

1.一種體全息存儲演示裝置，其特征在于：其包括半導體激光器(1)、第一空間濾波器(4)、偏振分光棱鏡(5)、半波片(6)、第二空間濾波器(7)、第一快門(9)、第二快門(8)、第一全反鏡(11)、第二全反鏡(10)、透射式空間光調制器(12)、凸透鏡(13)、電控旋轉臺(15)和計算機(18)；其中半導體激光器(1)、第一空間濾波器(4)、偏振分光棱鏡(5)、第二快門(8)、第二空間濾波器(7)和第二全反鏡(10)從左至右相隔距離設置成一排，并且半導體激光器(1)的發(fā)射口面對第一空間濾波器(4)；第一空間濾波器(4)的前后側各設有一個帶有小孔的孔板(2)；半波片(6)、第一快門(9)和第一全反鏡(11)從后至前相隔距離設置在偏振分光棱鏡(5)前方；透射式空間光調制器(12)、凸透鏡(13)和電控旋轉臺(15)從后至前相隔距離設置在第二全反鏡(10)前方，電控旋轉臺(15)的軸心處用于放置高厚度全息光盤(16)，同時第一全反鏡(11)和電控旋轉臺(15)的軸心位于同一條橫線上；計算機(18)與第一快門(9)和第二快門(8)電連接。

2.根據權利要求1所述的體全息存儲演示裝置，其特征在于：所述的體全息存儲演示裝置還包括一個CCD或光電探測器(17)，其設置在電控旋轉臺(15)前方，并且與計算機(18)、第一快門(9)和第二快門(8)電連接。

3.根據權利要求1所述的體全息存儲演示裝置，其特征在于：所述的半導體激光器(1)為532納米波長的二極管泵浦的半導體激光器。

4.根據權利要求1所述的體全息存儲演示裝置，其特征在于：所述的凸透鏡(13)的焦平面與高厚度全息光盤(16)中心之間的距離為1毫米。

5.一種利用權利要求1進行存儲和演示的高厚度全息光盤，其特征在于：所述的高厚度全息光盤(16)由以重量份計的下列組分組成：

6.根據權利要求5所述的高厚度全息光盤，其特征在于：所述的SiO₂納米粒子的平均直徑為10nm。

7.一種如權利要求5所述的高厚度全息光盤的制備方法，其特征在于：所述的制備方法是：首先將按照上述重量稱量的作為光敏劑的菲醌、作為熱引發(fā)劑的偶氮二異丁氰和作為熱致聚合單體的甲基丙烯酸甲酯共混，然后在50℃下通過超聲波振蕩使其混合均勻并充分互溶，之后放置30分鐘以產生沉淀，然后過濾，將SiO₂納米粒子加入到過濾后的澄清液中而制成混合液，將上述混合液升溫至55℃，并持續(xù)超聲振蕩5分鐘，而后停止振蕩，之后移至圓盤型玻璃模具內，升溫至65℃，維持該溫度并在干燥箱內固化48小時而制成毛坯，最后將上述毛坯利用氧化鋁拋光粉在300-500r/min的轉速下使用拋光機進行表面拋光，由此制成高厚度全息光盤(16)，厚度范圍為500微米至3毫米。