[發(fā)明專利]顯示設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410360446.5 | 申請日: | 2014-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN104345506A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李仙花;樸載華;鄭光哲;洪基表;金容奭;元盛煥;鄭美惠 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1345;G02F1/167 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓芳;邱玲 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 設備 | ||
1.一種顯示設備,所述顯示設備包括:
基礎基底,包括顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的周圍區(qū)域;
像素電極的陣列,形成在所述基礎基底的所述顯示區(qū)域上方;
有效空腔的陣列,設置在所述像素電極的陣列上方;
多個共電極,與所述像素電極的陣列相對,使得所述有效空腔的陣列設置在所述多個共電極中的至少一個共電極與所述像素電極的陣列之間;以及
金屬線,與所述顯示區(qū)域中的所述至少一個共電極電連接。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示設備,其中,所述像素電極以沿第一方向延伸的行排列,所述多個共電極沿所述第一方向延伸,使得所述至少一個共電極與至少兩個像素電極疊置,并且所述多個共電極沿與所述第一方向不同的第二方向排列。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示設備,其中,所述金屬線包括沿所述第一方向延伸的存儲線。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示設備,所述顯示設備還包括橋接電極,以使所述至少一個共電極與所述存儲線電連接。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示設備,其中,所述橋接電極的一部分設置在所述像素電極所設置的層上,并且與所述像素電極電絕緣。
6.如權(quán)利要求4所述的顯示設備,所述顯示設備還包括延伸部分,從所述存儲線分岔,以與所述橋接電極直接接觸。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示設備,所述顯示設備還包括中間絕緣層,設置在所述像素電極與所述存儲線之間,其中,所述中間絕緣層設置有穿過所述中間絕緣層形成的至少一個接觸孔,以暴露所述延伸部分,所述橋接電極通過所述接觸孔與所述延伸部分直接接觸并且連接到所述至少一個共電極。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示設備,其中,所述橋接電極在所述有效空腔外部的位置處與所述至少一個共電極直接接觸。
9.如權(quán)利要求4所述的顯示設備,其中,所述橋接電極被設置為多個,所述多個橋接電極被設置為分別對應于像素。
10.如權(quán)利要求4所述的顯示設備,其中,所述橋接電極被設置為多個,所述多個橋接電極被設置為對應于所述像素中的藍色像素。
11.如權(quán)利要求3所述的顯示設備,所述顯示設備還包括從所述存儲線分岔的延伸部分,其中,所述至少一個共電極在所述有效空腔外部的位置處與所述延伸部分直接接觸。
12.如權(quán)利要求11所述的顯示設備,所述顯示設備還包括多個中間絕緣層,順序地堆疊在所述延伸部分和所述至少一個共電極之間,其中,所述多個中間絕緣層設置有穿過所述多個中間絕緣層形成的多個接觸孔,以暴露所述延伸部分,所述至少一個共電極通過所述多個接觸孔中至少一個接觸孔與所述延伸部分直接接觸。
13.如權(quán)利要求3所述的顯示設備,所述顯示設備還包括覆蓋層,以限定所述有效空腔,其中,所述至少一個共電極設置在所述覆蓋層的內(nèi)表面上。
14.如權(quán)利要求2所述的顯示設備,所述顯示設備還包括設置在所述周圍區(qū)域中的連接線,所述連接線沿所述第二方向延伸,并且在所述周圍區(qū)域中與所述至少一個共電極電連接。
15.如權(quán)利要求1所述的顯示設備,其中,所述像素電極以沿第一方向延伸的行排列,所述金屬線沿與所述第一方向不同的第二方向延伸,以使所述多個共電極彼此電連接。
16.如權(quán)利要求15所述的顯示設備,所述顯示設備還包括沿所述第二方向延伸的兩條數(shù)據(jù)線,其中,當從垂直于所述基礎基底的主表面的觀察方向來觀察時,以沿所述第二方向延伸的列排列的每個像素電極被設置在所述兩條數(shù)據(jù)線之間,當從所述觀察方向觀察時,所述金屬線設置在所述兩條數(shù)據(jù)線之間,以與所述每個像素電極的非有效區(qū)域疊置。
17.如權(quán)利要求16所述的顯示設備,其中,所述金屬線設置在其上設置有所述數(shù)據(jù)線的層上。
18.如權(quán)利要求16所述的顯示設備,其中,所述每個像素電極包括沿所述第一方向和所述第二方向延伸以具有十字形狀的桿部分以及以放射狀形式從所述桿部分延伸的多個分岔部分,所述金屬線被設置為與所述桿部分的沿所述第二方向延伸的豎直部分疊置。
19.如權(quán)利要求15所述的顯示設備,所述顯示設備還包括沿所述第一方向延伸的存儲線,其中,所述金屬線與所述存儲線電連接。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





