[發(fā)明專利]一種改善刻蝕副產(chǎn)物凝結(jié)缺陷的晶圓凈化腔

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410357204.0
• 申請(qǐng)日: 2014-07-25
• 公開（公告）號(hào): CN104078398A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范榮偉;陳宏璘;龍吟;顧曉芳;郭浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;林彥之

1.一種改善刻蝕副產(chǎn)物凝結(jié)缺陷的晶圓凈化腔，其特征在于，所述晶圓凈化腔包括：

腔體，所述腔體側(cè)壁設(shè)有一個(gè)提供所述晶圓進(jìn)出的窗口，所述腔體具有可與外部刻蝕機(jī)臺(tái)腔體連通的接口；

噴射槍系統(tǒng)，包括設(shè)于所述腔體內(nèi)的環(huán)繞所述腔體豎直中心的若干頂部噴射槍和若干側(cè)壁噴射槍，所述頂部噴射槍設(shè)于所述側(cè)壁噴射槍的上方，所述頂部噴射槍和側(cè)壁噴射槍分別通過(guò)活動(dòng)支架連接所述腔體的側(cè)壁，所述活動(dòng)支架可帶動(dòng)所述頂部噴射槍、側(cè)壁噴射槍在所述腔體內(nèi)運(yùn)動(dòng)，所述噴射槍連通外部?jī)艋瘹庠矗鰢娚錁屜到y(tǒng)可通過(guò)所述噴射槍以不同方向及可調(diào)整的角度和距離朝向放置在所述腔體內(nèi)的所述晶圓同時(shí)噴射凈化氣體，對(duì)所述晶圓進(jìn)行凈化處理，去除所述晶圓粘附的刻蝕副產(chǎn)物，以消除刻蝕副產(chǎn)物與水反應(yīng)產(chǎn)生的凝結(jié)物缺陷；

晶圓支撐臺(tái)系統(tǒng)，包括設(shè)于所述腔體內(nèi)的下方用于承載所述晶圓的晶圓支撐臺(tái)，所述晶圓支撐臺(tái)位于所述頂部噴射槍和所述側(cè)壁噴射槍的下方，所述晶圓支撐臺(tái)的下方中心設(shè)有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸連接所述腔體外部的旋轉(zhuǎn)及移動(dòng)機(jī)構(gòu)；

抽氣系統(tǒng)，設(shè)于所述腔體上方外部，并通過(guò)抽氣管連通所述腔體內(nèi)部，所述抽氣管一端從所述腔體的上方伸入所述腔體內(nèi)部，另一端連通外部氣體回收裝置，所述抽氣系統(tǒng)通過(guò)所述抽氣管將所述腔體內(nèi)的凈化后氣體及其攜帶的刻蝕副產(chǎn)物抽出，并排向所述氣體回收裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述抽氣管在所述腔體內(nèi)具有下大、上小平滑過(guò)渡的管徑，所述抽氣管的下端開口位于所述晶圓支撐臺(tái)的上方，并位于所述頂部噴射槍和所述側(cè)壁噴射槍的上方。

3.如權(quán)利要求1或2所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述晶圓支撐臺(tái)、所述抽氣管、所述腔體的豎直中心重合。

4.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述頂部噴射槍按與所述晶圓支撐臺(tái)的垂直方向設(shè)于所述支撐臺(tái)的上方，并可通過(guò)所述活動(dòng)支架調(diào)整與所述晶圓支撐臺(tái)之間的垂直距離和至所述晶圓支撐臺(tái)中心的水平距離。

5.如權(quán)利要求4所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述頂部噴射槍與所述晶圓支撐臺(tái)之間的垂直距離可在0～150毫米之間調(diào)整。

6.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述側(cè)壁噴射槍按與所述晶圓支撐臺(tái)的傾斜方向設(shè)于所述支撐臺(tái)的上方，并可通過(guò)所述活動(dòng)支架調(diào)整與所述晶圓支撐臺(tái)之間的傾斜噴射角和至所述晶圓支撐臺(tái)中心的水平距離。

7.如權(quán)利要求6所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述側(cè)壁噴射槍與所述晶圓支撐臺(tái)之間的傾斜噴射角可在0～90度之間調(diào)整。

8.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述頂部噴射槍和側(cè)壁噴射槍按上下位置分別環(huán)繞所述腔體的豎直中心對(duì)稱且錯(cuò)位設(shè)置。

9.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)及移動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)所述轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)所述晶圓支撐臺(tái)在所述腔體內(nèi)可同時(shí)作旋轉(zhuǎn)、上下及水平移動(dòng)。

10.如權(quán)利要求1所述的晶圓凈化腔，其特征在于，所述腔體具有可與外部刻蝕機(jī)臺(tái)腔體連通的接口，所述接口為所述晶圓進(jìn)出的窗口。