[發(fā)明專(zhuān)利]評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在熱轉(zhuǎn)印膜中分散的方法和熱轉(zhuǎn)印膜無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410355922.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104339907A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樸世鉉;姜炅求;趙成昕;金旻惠;金成漢;樸時(shí)均;李恩受;李正孝;崔晉喜 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星SDI株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B41M5/382 | 分類(lèi)號(hào): | B41M5/382;G01N21/59 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 評(píng)價(jià) 光熱 轉(zhuǎn)換 材料 熱轉(zhuǎn)印膜中 分散 方法 熱轉(zhuǎn)印膜 | ||
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
2013年7月24日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局申請(qǐng)的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)10-2013-0087656和2014年5月2日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局申請(qǐng)的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)10-2014-0053664,標(biāo)題為“評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在熱轉(zhuǎn)印膜中分散的方法和使用所述方法的熱轉(zhuǎn)印膜”,的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在熱轉(zhuǎn)印膜中分散的方法和使用所述方法的熱轉(zhuǎn)印膜
背景技術(shù)
熱轉(zhuǎn)印膜包括基底膜和形成在基底膜的上表面上的光熱轉(zhuǎn)換層。熱轉(zhuǎn)印膜可進(jìn)一步包括在光熱轉(zhuǎn)換層的上表面上的中間層。熱轉(zhuǎn)印膜可具有沉積在光熱轉(zhuǎn)換層的上表面上或中間層上的有機(jī)發(fā)光材料。當(dāng)以吸收波長(zhǎng)的光照射所述光熱轉(zhuǎn)換層時(shí),光熱轉(zhuǎn)換層中的光熱轉(zhuǎn)換材料吸收具有特定波長(zhǎng)的入射光,并將至少部分入射光轉(zhuǎn)變成熱,由此有機(jī)發(fā)光材料可被轉(zhuǎn)印到OLED基板上的像素限定層(PDL)上。
為了在確保沒(méi)有斑點(diǎn)的均勻的外觀的同時(shí)提高熱轉(zhuǎn)印膜的轉(zhuǎn)印效率,有必要確保光熱轉(zhuǎn)換材料在光熱轉(zhuǎn)換層中的良好分散。通常,基于通過(guò)使用透射電子顯微鏡(TEM)拍攝光熱轉(zhuǎn)換層的截面來(lái)評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在光熱轉(zhuǎn)換層中的分散。然而,基于TEM圖像的分散的評(píng)價(jià)具有缺點(diǎn),因?yàn)橹苽錁悠泛蚑EM測(cè)量需要較長(zhǎng)時(shí)間。此外,由于使用者可主觀地進(jìn)行基于TEM圖像的評(píng)價(jià),評(píng)價(jià)結(jié)果具有低可靠性,并且難以提供具體的數(shù)值評(píng)價(jià)結(jié)果。韓國(guó)專(zhuān)利10-0654649公開(kāi)了光熱轉(zhuǎn)換材料和熱轉(zhuǎn)印膜。然而,上述專(zhuān)利未公開(kāi)用于評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料的分散的詳細(xì)方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面涉及評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在熱轉(zhuǎn)印膜中分散的方法。所述方法包括:分別根據(jù)下面的等式2和3計(jì)算所述熱轉(zhuǎn)印膜的光密度OD1和OD2;并且根據(jù)等式1基于所述光密度OD1和OD2計(jì)算分散的評(píng)估值(ΔOD),其中,當(dāng)所述分散的評(píng)估值(ΔOD)為0.1或更小時(shí),確定所述熱轉(zhuǎn)印膜具有所述光熱轉(zhuǎn)換材料的良好分散,并且當(dāng)所述分散的評(píng)估值(ΔOD)超過(guò)0.1時(shí),確定所述熱轉(zhuǎn)印膜具有所述光熱轉(zhuǎn)換材料的差分散。
<等式1>
ΔOD=|OD2-OD1|
等式1中,OD1和OD2與下面的定義相同。
本發(fā)明的另一個(gè)方面涉及熱轉(zhuǎn)印膜。所述熱轉(zhuǎn)印膜可包括基底層以及形成在所述基底層上并包括光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層。通過(guò)上面說(shuō)明的評(píng)價(jià)方法獲得所述熱轉(zhuǎn)印膜可具有0.011至0.1的ΔOD。
附圖說(shuō)明
圖1描述了用于測(cè)量熱轉(zhuǎn)印膜的透射率的UV分光計(jì)的模擬圖。
圖2描述了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的熱轉(zhuǎn)印膜的截面視圖。
圖3描述了根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的熱轉(zhuǎn)印膜的截面視圖。
圖4至圖9描述了實(shí)施例1至4和對(duì)比例1和2中制備的熱轉(zhuǎn)印膜的TEM圖像。
具體實(shí)施方式
將參考其中描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的附圖更全面地說(shuō)明本發(fā)明。將說(shuō)明這些實(shí)施方式,以使本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可容易地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。應(yīng)理解,本發(fā)明可以不同的方式實(shí)施,并且不限于下面的實(shí)施方式。附圖中,為了清楚,將省略與所述說(shuō)明無(wú)關(guān)的部分。整個(gè)說(shuō)明書(shū)中,相同的附圖標(biāo)記將表示相同的組件。如文中使用,參照附圖定義術(shù)語(yǔ),例如“上面”和“下面”。因此,應(yīng)理解術(shù)語(yǔ)“上表面”可和術(shù)語(yǔ)“下表面”交換地使用。
在根據(jù)本發(fā)明用于評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料在熱轉(zhuǎn)印膜中的分散的方法中,測(cè)量熱轉(zhuǎn)印膜的透射率以評(píng)價(jià)光熱轉(zhuǎn)換材料的分散。如文中使用,表述“光熱轉(zhuǎn)換材料的分散”意思是光熱轉(zhuǎn)換材料在光熱轉(zhuǎn)換層中的分散程度。術(shù)語(yǔ)“熱轉(zhuǎn)印膜”可包括,例如包括基底膜和形成在基底膜的上表面上的含有光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層的膜;或包括基底膜、形成在基底膜的上表面上的含有光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層和形成在光熱轉(zhuǎn)換層的上表面上的中間層的膜。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中,評(píng)價(jià)方法可包括:分別根據(jù)下面的等式2和3計(jì)算熱轉(zhuǎn)印膜的光密度OD1和OD2;并且根據(jù)等式1基于所述光密度OD1和OD2計(jì)算分散的評(píng)估值(ΔOD),其中,確定當(dāng)所述分散的評(píng)估值(ΔOD)為0.1或更小時(shí),確定熱轉(zhuǎn)印膜具有光熱轉(zhuǎn)換材料的良好分散,并且當(dāng)所述分散的評(píng)估值(ΔOD)超過(guò)0.1時(shí),熱轉(zhuǎn)印膜具有光熱轉(zhuǎn)換材料的差分散。
<等式1>
ΔOD=|OD2-OD1|
等式1中,OD1和OD2分別由等式2和3表示,
<等式2>
OD1=﹣log(T2/T1)
<等式3>
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