[發明專利]一種制備透明導電膜的方法

在審

• 申請號: 201410354711.9
• 申請日: 2014-07-23
• 公開（公告）號: CN104164654A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 謝鵬;王江波;林凡;譚勁松
• 申請（專利權）人: 華燦光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/58;C23C14/08
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 徐立

1.一種制備透明導電膜的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一基底，對所述基底進行超聲清洗并沖洗干凈，對沖洗干凈的所述基底進行甩干、烘干；

將烘干后的所述基底放入磁控濺射腔，對所述磁控濺射腔的腔體進行抽真空；

在所述腔體中通入高純Ar、O₂和輔助反應氣體，保持所述濺射腔體的腔體壓強為0.3Pa～1Pa；所述輔助反應氣體為H₂或富氫化合物的一種；

對靶材進行濺射，在所述基底上形成透明導電膜；

對帶有所述透明導電膜的所述基底進行退火處理，所述進行退火處理的溫度為150～200℃。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述基底進行超聲清洗并沖洗干凈包括：使用酒精對所述基底進行超聲清洗，用去離子水將所述基底沖洗干凈。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述磁控濺射腔的腔體進行抽真空包括：使所述腔體內的本底真空度達到1×10^-3Pa。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對靶材進行濺射包括：采用直流電源對所述靶材進行濺射，濺射功率為3000～5000W。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對帶有所述透明導電膜的所述基底進行退火處理包括：使用電熱烘箱對帶有所述透明導電膜的所述基底進行退火處理，所述進行退火處理的時間為5～30min。

6.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述基底為超白玻璃、有機玻璃、柔性襯底中的一種。

7.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述靶材為旋轉靶材，所述靶材的成分為氧化銦錫或摻鋁氧化鋅。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述氧化銦錫的組分質量比為：In₂O₃:O₂＝9:1；摻鋁氧化鋅的組分質量比為：ZnO:Al₂O₃＝97:3。

9.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述富氫化合物為水、丙酮、乙醇中的一種。

10.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述高純Ar、O₂和輔助反應氣體的流量分別為380～400sccm，10～32sccm和5～100sccm。